[实用新型]一种三层可排气镭雕装置

说明书

本实用新型公开了一种三层可排气镭雕装置，包括中空结构的镭雕壳体及设置于所述镭雕壳体上方的镭雕仪，所述镭雕仪底部设有激光头，所述激光头自所述镭雕壳体顶壁穿入，并朝下布置；所述镭雕壳体内自上而下依次设有载物平台一、载物平台二和载物平台三；所述镭雕壳体底部设有底座。通过设置三层载物平台结构，当一载物平台上的工件在雕刻时，其余载物平台可以进行上下料工序，从而可以避免镭雕模组因上下料工序而闲置这一情况，有利于提高设备利用率以及提高生产效率；另外通过镭雕腔室和排气管的使用，能够有效地避免镭雕过程中产生的废气随意排放至大气中，造成空气污染。

技术领域

本实用新型涉及一种镭雕机，尤其涉及一种三层可排气镭雕装置。

背景技术

镭雕也称激光雕刻，是一种用光学原理进行表面处理的工艺。现有技术中，镭雕过程大多采用人工操作。先由作业人员逐一将产品放到工位上进行镭雕，完成后人工将产品取出，然后再放下一个产品进行镭雕，不断循环，直至将所有产品镭雕完成。现有镭雕机一般只配有一套夹具模组，当作业完成后，需要等待下料和上料时间，造成机器闲置，生产效率低，并且镭雕过程中产生的废气直接向外界排放，造成空气污染。

实用新型内容

本实用新型的目的是克服现有技术的不足，提供一种三层可排气镭雕装置。

为实现上述目的，本实用新型采用以下技术方案：

一种三层可排气镭雕装置，包括中空结构的镭雕壳体及设置于所述镭雕壳体上方的镭雕仪，所述镭雕仪底部设有激光头，所述激光头自所述镭雕壳体顶壁穿入，并朝下布置；所述镭雕壳体内自上而下依次设有载物平台一、载物平台二和载物平台三；所述镭雕壳体底部设有底座。

进一步地，所述载物平台一、载物平台二及载物平台三通过导轨固定于所述镭雕壳体(1)内壁。

进一步优选地，所述载物平台一、载物平台二和载物平台三之间上下平行且等距间隔布置。

进一步地，所述镭雕壳体上设有一与其连通的排气管。

进一步地，所述镭雕壳体上枢设一腔室门，所述腔室门与所述镭雕壳体上的开口相匹配。

进一步优选地，所述载物平台一、载物平台二及载物平台三上均设置有夹具。

与现有技术相比，本实用新型具有以下有益效果：

本实用新型提供一种三层可排气镭雕装置，通过设置三层载物平台结构，当一载物平台上的工件在雕刻时，其余载物平台可以进行上下料工序，从而可以避免镭雕模组因上下料工序而闲置这一情况，有利于提高设备利用率以及提高生产效率；另外通过镭雕腔室和排气管的使用，能够有效地避免镭雕过程中产生的废气随意排放至大气中，造成空气污染。

附图说明

图1为本实用新型一种三层可排气镭雕装置的结构示意图；

其中，各附图标记为：

1-镭雕腔室，2-镭雕仪，3-激光装置，41-载物平台一，42-载物平台二，43-载物平台三，5-底座，6-导轨，7-腔室门，8-排气管，9-夹具。

具体实施方式

下面通过具体实施例对本实用新型进行详细和具体的介绍，以使更好的理解本实用新型，但是下述实施例并不限制本实用新型范围。

如图1所示，本实施例提供了一种三层可排气镭雕装置，包括中空结构的镭雕壳体1及设置于所述镭雕壳体1上方的镭雕仪2，所述镭雕仪2底部设有激光头3，所述激光头3自所述镭雕壳体1顶壁穿入，并朝下布置；所述镭雕壳体1内自上而下依次设有载物平台一41、载物平台二42和载物平台三43；所述镭雕壳体1底部设有底座5。