[实用新型]一种显影机喷头结构

说明书

本实用新型公开了一种显影机喷头结构，包括显影液主进液管，所述显影液主进液管的下方连通设置有缓存腔，所述缓存腔的下方连通设置有一组呈直线排列的喷头，该组喷头的长度与被显影晶片的直径相适配。为保证晶片上显影液的均匀性，减少流失，所述喷头间隔设置，且该组喷头的喷嘴孔径从中间向两边逐渐递减。本实用新型大大提高了显影液的喷洒效率，降低了生产成本。同时，可以方便调整喷头的数量和间距，满足不同晶片的显影要求，可广泛应用于晶片显影技术领域。

技术领域

本实用新型涉及LED衬底制造领域，尤其是涉及一种显影机喷头结构。

背景技术

随着网络和信息技术的迅猛发展，消费市场对LED显示的需求量日益增加，使得LED显示在国内外如雨后春笋，蓬勃发展，在满足消费市场的同时，国内外各家公司也在积极研究高品质产品给消费者带来一次次视觉上的冲击。目前纳米压印技术还未成熟，国内外市场制作高亮度蓝光LED衬底主要是通过在晶片表面制作一层黄光胶柱，然后刻蚀需要的形貌，其中工艺核心包括涂胶、曝光、显影等工艺，显影工艺均匀性对刻蚀以及后面流程起着决定性作用。

目前，国内主要通过单一的显影喷头来显影曝光后的晶片，显影液通过喷头流入旋转晶片表面，再通入纯水冲洗晶片表面产物及显影液残留，达到刻蚀前形貌。但是上述方式和结构容易造成胶柱底宽不均，均匀性不佳，同时显影液用量较多和时间较长等问题。

实用新型内容

本实用新型的目的是提供一种显影机喷头结构，解决现有单个显影喷头加工产品均匀性差，时间长，效率低的问题。

本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是：一种显影机喷头结构，包括显影液主进液管，所述显影液主进液管的下方连通设置有缓存腔，所述缓存腔的下方连通设置有一组呈直线排列的喷头，该组喷头的长度与被显影晶片的直径相适配。

为保证晶片上显影液的均匀性，减少流失，所述喷头间隔设置，且该组喷头的喷嘴孔径从中间向两边逐渐递减。

为方便根据晶片的大小调整喷头的个数及喷头间的间隙，还设置有一组喷头固定座，所述喷头固定安装在喷头固定座上，相邻两喷头固定座间设置有调整相邻两喷头固定座间距离的间隙调节座，喷头固定座和间隙调节座内均设置有显影液通道，显影液通道相互连通形成缓存腔，位于两端的所述喷头固定座一端封闭，其中一个喷头固定座与显影液主进液管连通。

为方便更换不同厚度的间隙调节座用于调节相邻两喷头间的间隙，所述间隙调节座包括主板，设置在主板两侧的连接管，所述喷头固定座上设置有与连接管相适配的沉孔，所述连接管与沉孔间还设置有密封圈。

为使显影液保持在恒定温度范围内，还设置有冷却循环水进水管和冷却循环水出水管，还设置有相互连通的进水管固定座和出水管固定座，所述显影液主进液管的一部分置于冷却循环水进水管内。

本实用新型的有益效果：本实用新型通过设置一组与晶片直径相适配的喷头，使得显影液从单喷头一个点变成多喷头多个点与晶片接触，原有喷头结构是晶片以60转每分钟旋转3秒钟，本实用新型喷头结构以60转每分钟旋转半圈即可，单片旋转时间减少至2～2.5秒，从而大大节省单片显影的时间，提升了生产效率。根据晶片靠近圆心和远离圆心的向心力不同，中间喷头到边缘喷头其喷嘴孔径和显影液流量逐渐递减，从而保证了显影均匀性，也减少边缘显影液甩出，节省显影液用量，降低成本。传统单喷头工作时需要从圆心向圆周移动，晶片旋转使显影液完全铺满整片晶片，这种移动造成晶片内外圈接触显影液有时间差，由于该结构是多个喷头贯穿于整个晶片直径上方同时喷液，工作时不需要移动，消除了晶片内外圈显影液反应的时间差，提升均匀性。多组喷头之间间隙和数量可根据晶片大小和均匀性进行调节，可以灵活适应更大晶片尺寸，为以后大尺寸晶片趋势提供硬件基础。且采用喷头固定座和间隙调节座的相互配合安装，结构简单，拆装方便；同时可以通过更换不同厚度的间隙调节座来调整相邻两喷头间的间隙，调整方便。本实用新型还通过将显影液主进液管上部置于冷却循环水进水管中，从而保证显影液的温度恒定，满足产生工艺要求。