[实用新型]一种石墨盘及其配套衬底

说明书

本实用新型属于发光半导体设备领域，尤其涉及一种石墨盘及其配套衬底，石墨盘包括多个用于放置衬底的晶圆凹槽，衬底的侧面设置有卡槽，晶圆凹槽的顶部周边设置有上层组件，上层组件底部的至少一侧位于晶圆凹槽的侧壁，上层组件上设有用于固定衬底的侧向组件，侧向组件为可伸缩结构，侧向组件嵌于衬底的卡槽内。本实用新型降低了离心力对衬底的影响，使得衬底在生长时无法翘起，或翘起时角度较小，不会干扰到石墨盘面的气流模型，得到较好均匀性的片源，提高良率。

技术领域

本实用新型属于发光半导体设备领域，尤其涉及一种石墨盘及其配套衬底, 以减小衬底的翘起角度，改善片源波长的均匀性。

背景技术

发光二极管（英文为Light Emitting Diode，简称LED）是一种固态半导体二极管发光器件，被广泛用于指示灯、显示屏等照明领域。现阶段制取LED晶圆片的方法主要是通过金属有机化合物化学气相沉淀（英文为Metal-organic Chemical Vapor Deposition ，简称MOCVD）实现，可以简述其流程如下：将外延晶圆衬底（如蓝宝石衬底/Si衬底）放入石墨承载盘（Wafer carrier）的凹槽上，将其石墨承载盘一起传入MOCVD 反应室内，通过将反应室温度加热到设定好的温度，并配合通入有机金属化合物和五族气体，使它们在晶圆衬底上断开化学键并重新聚合形成LED外延层。

随着LED的发展，尤其是近几年Mirco LED，Mini LED概念的提出，波长均匀性正变得越来越重要，也因为这个原因，使用低转速生长的Aixtron机台由于均匀性的优势也成为市场中普遍看好的机型，但由于机台的稼动率较低，因此会造成成本的劣势，而在这个方面，美国Veeco公司及国产中微等厂家具备明显的优势。但Veeco机台和中微机台会存在明显的迎风面问题，影响波长均匀性。主要是由于这两种机型均使用高转速（200~1200RPM），当高速旋转时，由于离心力的作用,衬底靠近石墨盘中心的区域会翘起,从而导致该区域温度较低,导致波长偏长,从而导致STD偏差，同时由于衬底翘起，会导致翘起部分受气流影响，产生严重的迎风面波长异常现象。

因此，研究并设计出一种石墨盘及其配套衬底是非常有必要的。

发明内容

本实用新型的目的在于提供一种石墨盘及其配套衬底，以解决上述背景技术中片源在机台内高速旋转，受离心力的作用导致的翘曲，影响片源均匀性的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种石墨盘及其配套衬底，石墨盘包括多个用于放置衬底的晶圆凹槽，所述衬底的侧面设置有卡槽，晶圆凹槽的顶部周边设置有上层组件，上层组件底部的至少一侧位于晶圆凹槽的侧壁，上层组件上设有用于固定衬底的侧向组件，侧向组件为可伸缩结构，侧向组件嵌于衬底的卡槽内。

优选的，所述上层组件在每个晶圆凹槽处设置多个。

优选的，多个所述上层组件连接为一个整体结构，连接的部分不遮挡晶圆凹槽。

优选的，所述上层组件为倒凹字形结构，相邻的两个晶圆凹槽共用一个上层组件，上层组件的凹面紧贴晶圆凹槽的内壁和石墨盘表面。

优选的，所述上层组件还设有固定孔和固定部件，固定部件插入固定孔内，将上层组件固定在石墨盘上。

优选的，所述上层组件的底部侧面设置有固定槽。

优选的，所述侧向组件包括插入固定槽的固定块和与固定块连接的凸起，凸起与衬底的卡槽相匹配。

优选的，所述凸起为具有弹性的弹片结构。

优选的，所述固定块和凸起之间设有能左右伸缩的弹性结构。

优选的，所述凸起为间隔设置或者为沿晶圆凹槽侧壁分布的圆环结构。

优选的，所述凸起为铼凸起或者钨凸起。