[实用新型]一种高浓度切削液乳化液废水处理系统

权利要求书

1.一种高浓度切削液乳化液废水处理系统，其特征在于，包括通过管路依次串联的隔油调节池、电絮凝一体化装备、集水池、固定床电催化氧化废水处理装置、综合调节池、SBR生物反应器、缓冲排放池、BAF池以及回用水池；

还包括污泥处理装置，所述污泥处理装置包括通过管路依次串联的污泥浓缩池、污泥提升泵和污泥压滤机；所述电絮凝一体化装备、固定床电催化氧化废水处理装置以及SBR生物反应器均通过管路与污泥浓缩池相连通。

2.根据权利要求1所述的高浓度切削液乳化液废水处理系统，其特征在于，所述固定床电催化氧化废水处理装置包括固定床和设备本体，所述设备本体设置在固定床上，所述设备本体包括设备箱、PLC控制器、直流开关电源、导电极板、三维粒子电极层、承托层组件、进水系统、曝气系统、排水系统和排渣排空系统，所述PLC控制器用于控制直流开关电源的开启，所述直流开关电源通过导线和导电极板电连接，所述三维粒子电极层和承托层组件均设置于设备箱的内部，所述承托层组件位于三维粒子电极层的底部并用于支撑三维粒子电极层，所述导电极板竖直设置于三维粒子电极层内，所述曝气系统安装于设备箱的一侧面底部，所述进水系统安装于设备箱的另一侧面底部，所述排水系统位于设备箱一侧面的顶部，所述排渣排空系统安装于设备箱第三侧面的顶部。

3.根据权利要求2所述的高浓度切削液乳化液废水处理系统，其特征在于，所述的固定床电催化氧化废水处理装置，还包括有清洗系统和人机界面，所述清洗系统包括自来水清洗系统、高压风机清洗系统和药剂清洗系统，所述自来水清洗系统、高压风机清洗系统和药剂清洗系统均由相应的管道和气动阀门组成，所述人机界面的输出端和PLC控制器的输入端连接，所述自来水清洗系统、高压风机清洗系统和药剂清洗系统上的气动阀门的输入端均与PLC控制器的输出端连接。

4.根据权利要求2所述的高浓度切削液乳化液废水处理系统，其特征在于，所述的导电极板设置有多个，多个导电极板通过桥架固定在设备箱内部，且多个导电极板均匀设置，所述导电极板为石墨极板。

5.根据权利要求2所述的高浓度切削液乳化液废水处理系统，其特征在于，所述的三维粒子电极层包括载体和设置在载体上的负载催化剂。

6.根据权利要求2所述的高浓度切削液乳化液废水处理系统，其特征在于，所述承托层组件包括承托板和用于支撑承托板的承托垫层，所述承托垫层位于设备箱的内部底端，所述承托板位于承托垫层和三维粒子电极层之间并用于承托三维粒子电极层，所述承托板的表面安装有布水帽，所述承托垫层由不同粒度等级的鹅卵石组成，所述承托垫层的高度设置为150-250mm，所述承托垫层的内部设置有分别和进水系统和曝气系统相对应的布水管和布气管。

7.根据权利要求2所述的高浓度切削液乳化液废水处理系统，其特征在于，所述的进水系统包括废水提升泵、进水管道和进水阀门，所述的废水提升泵和进水阀门依次安装于进水管道上，所述进水管道的一端位于设备箱的外侧，所述进水管道的另一端贯穿设备箱的端面并与布水管连接，所述进水阀门为气动阀门，所述进水阀门的输入端与PLC控制器的输出端连接。

8.根据权利要求2所述的高浓度切削液乳化液废水处理系统，其特征在于，所述的曝气系统包括曝气风机、曝气管道和曝气阀门，所述曝气风机和曝气阀门依次安装于曝气管道上，所述曝气管道的一端位于设备箱的外侧，所述曝气管道的另一端贯穿设备箱的一端面并与布气管连接，所述曝气阀门为气动阀门，所述曝气阀门的输入端与PLC控制器的输出端连接。

9.根据权利要求2所述的高浓度切削液乳化液废水处理系统，其特征在于，所述排渣排空系统包括排渣排空管道和设置在排渣排空管道上的排渣排空阀门，所述排渣排空管道的一端和设备箱连通，所述排渣排空阀门的输入端和PLC控制器的输出端连接。

10.根据权利要求1所述的高浓度切削液乳化液废水处理系统，其特征在于，每一级BAF池均采取钢结构；BAF池包括由底部至顶部依次分布的承托层、配水层、滤料层以及清水层，所述承托层设置高度为350mm；配水层高度设置为1200mm；滤料层高度设置为2500mm；清水层设置高度为1000mm，清水层超高设置为350mm；BAF池总体的高度为5400mm；BAF池设置气动阀门。