[实用新型]一种用于化学气相沉积设备的馈通装置有效
申请号: | 201921228115.0 | 申请日: | 2019-07-31 |
公开(公告)号: | CN210711734U | 公开(公告)日: | 2020-06-09 |
发明(设计)人: | 王丽娜 | 申请(专利权)人: | 美若科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455;C23C16/52 |
代理公司: | 广州文衡知识产权代理事务所(普通合伙) 44535 | 代理人: | 李丽 |
地址: | 276800 山东省日照市*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 用于 化学 沉积 设备 装置 | ||
本实用新型涉及化学气相沉积技术领域,且公开了一种用于化学气相沉积设备的馈通装置,包括外筒,所述外筒的内壁套接有旋转筒,旋转旋转筒通过旋转筒上的圆形槽可以控制所有气体通道开启和闭合,外筒的外壁固定连接有底座,底座里设置有转动轮、内外圈和三角叶片,扭动旋转钮通过旋转杆的传递可以控制转动轮的转动,转动轮转动带动外圈转动,外圈转动又通过连接杆带动了三角叶片的闭合,三角叶片的闭合控制了内圈气体通道的闭合,从而达到了控制单个气体通道的目的,本实用新型结构简单,操作容易,通过底座部分和旋转筒部分,达到了有效控制馈通装置气体进入的效果,具有工作效率高、节约原材料等有益效果。
技术领域
本实用新型涉及化学气相沉积技术领域,具体为一种用于化学气相沉积设备的馈通装置。
背景技术
化学气相沉积是一种化工技术,该技术主要是利用含有薄膜元素的一种或几种气相化合物在衬底表面上进行化学反应生成薄膜的方法,是近几十年发展起来的制备无机材料的新技术,广泛用于提纯物质、研制新晶体、淀积各种单晶、多晶或玻璃态无机薄膜材料,其中化学气相沉积用的馈通装置的作用更是不容忽视。
气体馈通时,引入的气体通常被引导至涂布器中再发生沉积反应,但是现有的技术中,往往只能够一次性引入所有气体,不能够有效地控制气体的流量和引入气体的种类,发生一次沉积现象往往需要频繁的更换设备,浪费人力物力的同时也对工作效率造成了严重的影响,因此,如何能够有效地控制气体的引入成为了一项继续解决的技术难题。
实用新型内容
(一)解决的技术问题
针对现有技术的不足,本实用新型提供了一种用于化学气相沉积设备的馈通装置,具备便于控制气体引入的优点,解决了气体的引入难以控制的问题。
(二)技术方案
为实现上述便于控制气体引入的目的,本实用新型提供如下技术方案:一种用于化学气相沉积设备的馈通装置,包括外筒,所述外筒的内壁套接有旋转筒,所述外筒的底部固定连接有基板,所述基板的底部固定连接有底筒,所述底筒的底部固定连接有涂布器,所述外筒的外壁固定连接有底座,所述底座朝外面的一侧固定连接有进气管,所述底座朝外面的另一侧活动连接有旋转杆,所述旋转杆的顶部固定连接有旋转钮,所述进气管的朝内面固定连接有内圈,所述内圈的外壁开设有弧形槽,所述内圈的内部边缘铰接有三角叶片,所述三角叶片的一端铰接有连接杆,所述连接杆的顶端铰接有外圈,所述外圈的外壁啮合有转动轮,所述转动轮的中心处固定连接有旋转杆,所述内圈的朝内面固定连接有连接管,所述连接管的朝内面活动连接有旋转筒,所述旋转筒的外壁开设有圆形槽,所述旋转筒的底部开设有矩形槽,所述矩形槽活动连接在凹型座的内壁上,所述旋转筒的内壁活动连接有出气管。
优选的,所述底筒的顶部贯通基板的中心处与外筒固定连接,起到支撑外筒的作用。
优选的,所述底座、进气管、旋转杆、旋转钮、连接管、出气管、转动轮、内圈、三角叶片和外圈均有六个,均匀设置在外筒上,数量更多效率更高。
优选的,所述三角叶片、弧形槽和连接杆均有五个,便于控制三角叶片的开合。
优选的,所述内圈的面积等于五个三角叶片的面积和,便于封闭三角叶片。
优选的,所述连接杆的底端与内圈上开设的弧形槽相契合,使三角叶片与内圈的契合效果更佳。
优选的,所述圆形槽的半径与连接管和出气管的半径相等,便于控制气体的进入。
(三)有益效果
与现有技术相比,本实用新型提供了一种用于化学气相沉积设备的馈通装置,具备以下有益效果:
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的