[实用新型]一种硅片清洗装置

说明书

本实用新型提供了一种硅片清洗装置，所述硅片清洗装置包括漂洗槽、监测单元和控制单元，其中，漂洗槽中盛装有用于清洗硅片的漂洗液，监测单元的一端插入漂洗液中，用于监测漂洗液的水质浊度，控制单元与监测单元的另一端连接，用于根据水质浊度与预设浊度阈值的比较结果，提示换水，从而保证清洗的硅片的洁净度。本实用新型实施例提供的硅片清洗装置，通过设置监测单元和控制单元，对水质浊度和换水时机的确定更加准确，避免了在水质过浊或者水质尚清时进行换水，不仅保证了所清洗硅片的洁净度，而且节约了水资源。

技术领域

本实用新型涉及光伏技术领域，特别是涉及一种硅片清洗装置。

背景技术

随着太阳能利用率的不断提高，光伏发电得到快速发展，光伏发电领域的半导体器件也得到了广泛应用，硅片作为光伏发电的基础材料，其洁净程度，直接影响到半导体器件的成品率。

现有技术中，硅片在加工的过程中，表面容易附着杂质，需要通过硅片清洗装置对硅片表面的杂质进行清洗，提高硅片的洁净度。现有的硅片清洗装置中设置有试剂槽和漂洗槽，试剂槽主要对硅片切割时的残留物和其他有机物进行清洗，漂洗槽主要对试剂槽清洗后的硅片进行漂洗，以获得洁净的硅片。为了保证硅片的洁净度，漂洗槽需要进行换水处理，通常，漂洗槽的换水频率由工作人员凭借经验设定，例如，清洗一定数量的硅片后进行换水处理。

然而，漂洗槽的水质浊度会受到硅片的脏污程度的影响，单纯地根据清洗硅片的数量确定漂洗槽的换水频率，容易造成清洗不干净或者水资源浪费的问题。例如，当硅片的脏污程度较大时，漂洗槽中的水质浊度会较大，当根据清洗硅片的数量换水时，硅片会清洗不干净；而当硅片的脏污程度较小时，漂洗槽中的水质浊度会较小，当根据清洗硅片的数量换水时，会造成水资源的浪费。

发明内容

鉴于上述问题，提出了本实用新型以便提供一种克服上述问题或者至少部分地解决上述问题的一种硅片清洗装置。

为了解决上述问题，本实用新型公开了一种硅片清洗装置，用于清洗硅片，所述硅片清洗装置包括：漂洗槽、监测单元和控制单元；其中，

所述漂洗槽中盛装有用于清洗所述硅片的漂洗液；

所述监测单元的一端插入所述漂洗液中，所述监测单元用于监测所述漂洗液的水质浊度；

所述控制单元与所述监测单元的另一端连接，所述控制单元用于根据所述水质浊度与预设浊度阈值的比较结果，提示换水。

可选的，所述水质浊度为散射浊度。

可选的，所述监测单元包括：吸水探头、导管和监测仪；其中，

所述吸水探头插入所述漂洗液中，所述吸水探头用于吸入所述漂洗液；

所述导管的一端与所述吸水探头连接，所述导管的另一端与所述监测仪连接，所述导管用于将吸入的所述漂洗液导向所述监测仪；

所述监测仪与所述控制单元连接，所述监测仪，用于监测导入的所述漂洗液的水质浊度。

可选的，所述监测仪为浊度仪。

可选的，所述漂洗槽包括多个，每个所述漂洗槽对应一个所述吸水探头；

每个所述吸水探头分别通过一个所述导管与所述监测仪连接。

可选的，所述硅片清洗装置还包括：显示单元；其中，

所述显示单元与所述控制单元连接，用于显示所述水质浊度。

可选的，所述硅片清洗装置还包括：试剂槽和烘干槽；其中，

所述漂洗槽分别与所述试剂槽和所述烘干槽连接。

可选的，所述试剂槽有多个，多个所述试剂槽顺次连接。