[实用新型]一种离子研磨仪截面加工专用显微镜的样品台有效
| 申请号： | 201921252434.5 | 申请日： | 2019-08-05 |
| 公开（公告）号： | CN210778477U | 公开（公告）日： | 2020-06-16 |
| 发明（设计）人： | 程跃;鲍晋珍;武倩 | 申请（专利权）人： | 上海恩捷新材料科技有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/20 | 分类号： | H01J37/20;H01J37/30;H01J37/305;G01N1/36 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 201399 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 离子 研磨 截面 加工 专用 显微镜 样品 | ||
【权利要求书】：
1.一种离子研磨仪截面加工专用显微镜的样品台，包括垂直定位区和水平定位区，其特征在于，
显微镜垂直定位区包括定位柱I和定位孔，定位柱I凸出台面，定位孔凹于台面；
显微镜水平定位区包括定位柱II和定位柱III，定位柱II和定位柱III 均凸出台面；
显微镜定位柱I的大小和位置与样品座上凹定位孔的大小和位置相适应，同时显微镜定位孔的大小与位置与样品座下凸定位柱的大小和位置相对应，当样品座垂直放置于显微镜上，两组定位装置同时相互适应，样品座在显微镜上获得固定；
当样品座水平放置于显微镜上，显微镜定位柱III和定位柱III 的大小和位置与样品座上两个定位孔的大小和位置同时相适应，样品座在显微镜上获得固定。
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