[实用新型]一种离子研磨仪截面加工专用显微镜的样品台

说明书

本实用新型涉及一种离子研磨仪截面加工专用显微镜的样品台，其特征在于，包括垂直定位区和水平定位区，其特征在于，显微镜垂直定位区包括定位柱I和定位孔，定位柱I凸出台面，定位孔凹于台面；显微镜水平定位区包括定位柱II和定位柱III，定位柱II和定位柱III均凸出台面。由于显微镜垂直定位区结构的变化，当样品座垂直放置于显微镜垂直定位区上，样品座不能做左右前后或旋转运动，样品座位置获得固定，便于样品进行更为准确的X方向加工位置定位。

技术领域

本实用新型涉及显微镜配套部件技术领域，具体的说，是一种离子研磨仪截面加工专用显微镜的样品台。

背景技术

在使用离子研磨仪加工样品截面时，样品需要安装在专用的截面加工样品座上，借助专用显微镜对截面加工位置进行定位，以准确选择和预估离子束在样品上的加工中心和加工范围。

定位分三个方向进行调节：X，Y，R。R方向调节作用是使样品边缘、MASK边缘、目镜水平标记线三线平行，从而可以进一步调整样品边缘超出MASK边缘的高度，即进行Y方向调节。通过R方向和Y方向的调整，可以确定离子束在样品纵向上的作用位置，而X方向的调整则可以调节离子束在样品横向上的作用位置。

离子研磨仪定位专用显微镜，分垂直定位区和水平定位区。R方向和Y方向调节时，专用截面加工样品座水平放于专用显微镜上，样品座处于专用显微镜水平定位区；X方向调节时，专用截面加工样品座垂直放置于专用显微镜上，样品座处于专用显微镜垂直定位区。当样品座水平放置时，样品座上设置有2个凸出的定位柱，专用定位显微镜水平定位区上设置有2个下凹的定位孔，2组定位柱与定位孔相适应，样品座无法左右或前后移动，同时限制了样品座无法做旋转运动，从而样品座在定位显微镜上得到固定。当样品座垂直放置时，样品座上有一个上凹的定位孔，专用显微镜垂直定位区上有一个上凸的定位柱，样品座垂直放置时，定位柱与定位孔相适应，样品座无法左右或前后移动，但是，样品座可以以定位柱为中心旋转，这样虽然一定程度上样品座的相对位置得到固定，但无法阻止样品座做旋转运动或微小的前后左右偏移，X方向加工中心的准确定位无法实现。

同时我们注意到，样品座垂直放置时，上凹的定位孔旁边有一个下凸的定位柱。当样品连同样品座安装入离子研磨仪样品室内，样品座垂直样品台放置，样品座上凹的定位孔与样品台上凸的定位柱配合，同时，样品台上有一个下凹的定位孔，样品座下凸的定位柱与样品台下凹的定位孔配合，阻止样品座做旋转运动。

本实用新型要解决的技术问题是目前的截面加工样品座和专用显微镜配合后，无法准确进行样品X方向加工位置定位，导致对离子束在样品上的加工中心难以准确选择定位的问题。我们从现有截面加工样品座结构出发，对专用显微镜的垂直定位区结构进行部分改变，来实现这一目的。

实用新型内容

本实用新型要解决的技术问题是目前的截面加工样品座和专用显微镜的结构配合后，无法准确进行样品X方向加工位置定位，难以对离子束在样品上的加工中心进行准确定位的问题，为了实现上述目的，本实用新型采用了如下技术方案。

一种离子研磨仪截面加工专用显微镜的样品台，包括垂直定位区和水平定位区，其特征在于，

显微镜垂直定位区包括定位柱I和定位孔，定位柱I凸出台面，定位孔凹于台面；显微镜定位柱I的大小和位置与样品座上凹定位孔的大小和位置相适应，同时显微镜定位孔的大小与位置与样品座下凸定位柱的大小和位置相对应，当样品座垂直放置于显微镜上，两组定位装置同时相互适应，样品座在显微镜上获得固定；

显微镜水平定位区包括定位柱II和定位柱III，定位柱II和定位柱III均凸出台面；当样品座水平放置于显微镜上，显微镜定位柱III和定位柱III的大小和位置与样品座上两个定位孔的大小和位置同时相适应，样品座在显微镜上获得固定。

与现有技术相比，本实用新型的积极效果是：