[实用新型]基于激光钻孔碳化导电直接金属化孔的电路板有效

专利信息
申请号: 201921303853.7 申请日: 2019-08-13
公开(公告)号: CN210469874U 公开(公告)日: 2020-05-05
发明(设计)人: 叶华;杨贤伟;敖丽云 申请(专利权)人: 福建世卓电子科技有限公司
主分类号: H05K1/11 分类号: H05K1/11;H05K3/00;H05K3/42
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 363000 福建省*** 国省代码: 福建;35
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摘要:
搜索关键词: 基于 激光 钻孔 碳化 导电 直接 金属化 电路板
【权利要求书】:

1.一种基于激光钻孔碳化导电直接金属化孔的电路板,其特征在于:具有基材、铜箔的覆铜板开设有孔,基材对应的孔的孔壁位置具有一层碳化层,铜箔表面和碳化层表面具有一层镀铜层。

2.如权利要求1所述的基于激光钻孔碳化导电直接金属化孔的电路板,其特征在于:所述铜箔包括上层铜箔、下层铜箔,所述覆铜板为双面覆铜板。

3.如权利要求1所述的基于激光钻孔碳化导电直接金属化孔的电路板,其特征在于:所述的孔为通孔或盲孔。

4.一种基于激光钻孔碳化导电直接金属化孔的电路板,其特征在于:具有基材、线路的覆铜板开设有孔,基材对应的孔的孔壁位置具有一层碳化层,线路上具有贴覆盖膜或印油墨形成的覆盖层,碳化层表面镀有一层镍金层,没有覆盖层的线路表面也镀有一层镍金层。

5.如权利要求4所述的基于激光钻孔碳化导电直接金属化孔的电路板,其特征在于:所述线路包括上层线路、下层线路,所述覆铜板为双面覆铜板。

6.如权利要求4所述的基于激光钻孔碳化导电直接金属化孔的电路板,其特征在于:所述的孔为通孔或盲孔。

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