[实用新型]一种硅片的清洗槽

说明书

本实用新型公开了一种硅片的清洗槽，涉及硅片生产技术领域，具体为一种硅片的清洗槽，包括槽体，所述槽体的顶部固定安装有超声波发生器，所述槽体的右侧固定连接有排液口，所述排液口的顶部固定安装有控制阀，所述槽体的内部固定连接有挡板，所述挡板的顶部放置有硅片放置板，所述硅片放置板的顶部设置有卡槽，所述硅片放置板顶部的右侧固定连接有侧板。该硅片的清洗槽，通过设置高压喷头使清洗液形成高压水流对硅片进行冲洗，能够有效地取出硅片表面的附着物，当冲洗的清洗漫过硅片的顶部时，通过超声波发生器产生的超声波使清洗液震动，对硅片进行二次的清洗，提高了硅片的清洗效率。

技术领域

本实用新型涉及硅片生产技术领域，具体为一种硅片的清洗槽。

背景技术

随着光伏行业的快速发展，对硅片的需求越来越多，同时对硅片清洗的要求也越来越高，硅片在生产的过程中须经严格清洗，微量污染也会导致器件失效，清洗的目的在于清除表面污染杂质，包括有机物和无机物，这些杂质有的以原子状态或离子状态，有的以薄膜形式或颗粒形式存在于硅片表面。

现有的硅片清洗方式大多采用静置浸泡的方式进行，这种清洗方式存在一定的缺陷，很难去除硅片上粘附的一些强吸附能力的杂质，同时现有的清洗槽功能较为单一，硅片的清洗和干燥需要分个装置进行处理，降低了硅片的处理效率，同时多个装置也占据更多的空间。

实用新型内容

针对现有技术的不足，本实用新型提供了一种硅片的清洗槽，解决了上述背景技术中提出的问题。

为实现以上目的，本实用新型通过以下技术方案予以实现：一种硅片的清洗槽，包括槽体，所述槽体的顶部固定安装有超声波发生器，所述槽体的右侧固定连接有排液口，所述排液口的顶部固定安装有控制阀，所述槽体的内部固定连接有挡板，所述挡板的顶部放置有硅片放置板，所述硅片放置板的顶部设置有卡槽，所述硅片放置板顶部的右侧固定连接有侧板，所述卡槽的内部卡接有硅片，所述槽体的左侧固定连接有溢流管，所述槽体的右侧固定安装有干燥室，所述干燥室的内壁的右侧固定安装有加热板，所述加热板的左侧固定连接有电热片，所述干燥室的左侧固定安装有风机，所述槽体的顶部铰接有顶板，所述顶板的中部固定套接有输液管，所述输液管的底部固定连接有分液管，所述分液管的底部固定安装有高压喷头，所述分液管的顶部固定连接有固定块。

可选的，所述超声波发生器的数量为两个且以槽体的中心线为对称轴对称分布。

可选的，所述溢流管的高度低于风机的高度。

可选的，所述硅片放置板顶部的卡槽的数量为十五个且每个卡槽内并排放置有两个硅片。

可选的，所述固定块的数量为两个且分别位于分液管的两端，所述固定块的顶部与顶板的底部固定连接。

本实用新型提供了一种硅片的清洗槽，具备以下有益效果：

1、该硅片的清洗槽，通过设置高压喷头使清洗液形成高压水流对硅片进行冲洗，能够有效地取出硅片表面的附着物，当冲洗的清洗漫过硅片的顶部时，通过超声波发生器产生的超声波使清洗液震动，对硅片进行二次的清洗，提高了硅片的清洗效率。

2、该硅片的清洗槽，通过设置干燥室，在硅片清洗完成后，利用加热板发热加热空气，再由风机将热空气吹如槽体内，对硅片进行干燥，缩短了硅片的清洗过程，提高了硅片的清洗效率，通过设置溢流管对清洗液的液位进行控制，不仅能够防止清洗液含量过多，同时还能将冲洗下来的灰尘进行流出清理，避免清洗液进入干燥室内，提高装置的安全性和清洗装置内部的清洁。

附图说明

图1为本实用新型正面的结构示意图；

图2为本实用新型硅片放置板右侧的结构示意图。