[实用新型]一种全新的物理气相沉积铝腔体配件装置

说明书

本实用新型公开了一种全新的物理气相沉积铝腔体配件装置，包括旋拧工件、金属内筒和金属外筒，所述金属内筒一侧设有环形凸沿部，且环形凸沿部一边沿轴向开设有连通金属内筒的第一穿孔，所述金属内筒外壁设有外螺纹部，所述金属外筒内壁设有与外螺纹部规格相适配的内螺纹部，所述金属外筒一端开有第二穿孔，所述旋拧工件包括卡盘，且卡盘一侧设有阶梯槽，所述卡盘远离阶梯槽一面中部位置处螺接有支杆，且支杆远离卡盘一端焊接有旋杆。本实用新型可以使得保养装配更便捷，缩短保养的时间，减小保养的工作量，相比以前的装置，该装置是用螺纹固定各配件，各配件之间的装配更紧密，减小粘片的机率，提高机器的稳定性。

技术领域

本实用新型涉及物理气相沉积实验技术领域，尤其涉及一种全新的物理气相沉积铝腔体配件装置。

背景技术

物理气相沉积(Physical Vapor Deposition，PVD)技术表示在真空条件下，采用物理方法，将材料源——固体或液体表面气化成气态原子、分子或部分电离成离子，并通过低压气体(或等离子体)过程，在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄膜的技术。物理气相沉积的主要方法有，真空蒸镀、溅射镀膜、电弧等离子体镀、离子镀膜，及分子束外延等。发展到目前，物理气相沉积技术不仅可沉积金属膜、合金膜、还可以沉积化合物、陶瓷、半导体、聚合物膜等。物理气相沉积实验需要用到铝腔体配件装置。

现有的铝腔体配件装置，结构复杂，导致在保养装配的时候工序复杂，花费时间长，所以现提出一种全新的物理气相沉积铝腔体配件装置。

实用新型内容

本实用新型的目的是为了解决现有技术中存在的缺点，而提出的一种全新的物理气相沉积铝腔体配件装置。

为了实现上述目的，本实用新型采用了如下技术方案：

一种全新的物理气相沉积铝腔体配件装置，包括旋拧工件、金属内筒和金属外筒，所述金属内筒一侧设有环形凸沿部，且环形凸沿部一边沿轴向开设有连通金属内筒的第一穿孔，所述金属内筒外壁设有外螺纹部，所述金属外筒内壁设有与外螺纹部规格相适配的内螺纹部，所述金属外筒一端开有第二穿孔，所述旋拧工件包括卡盘，且卡盘一侧设有阶梯槽，所述卡盘远离阶梯槽一面中部位置处螺接有支杆，且支杆远离卡盘一端焊接有旋杆。

优选的，所述金属外筒为多棱柱型结构。

优选的，所述阶梯槽规格与金属外筒相适配。

本实用新型的有益效果为：

由于设计上的改善，可以使得保养装配更便捷，缩短保养的时间，减小保养的工作量，相比以前的装置，该装置是用螺纹固定各配件，各配件之间的装配更紧密，减小粘片的机率，提高机器的稳定性。

附图说明

图1为本实用新型提出的一种全新的物理气相沉积铝腔体配件装置的爆炸剖视结构示意图。

图中：1旋杆、2支杆、3卡盘、4第二穿孔、5内螺纹部、6金属外筒、7外螺纹部、8第一穿孔、9金属内筒、10阶梯槽。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。

参照图1，一种全新的物理气相沉积铝腔体配件装置，包括旋拧工件、金属内筒9和金属外筒6，金属内筒9一侧设有环形凸沿部，且环形凸沿部一边沿轴向开设有连通金属内筒9的第一穿孔8，金属内筒9外壁设有外螺纹部7，金属外筒6内壁设有与外螺纹部7规格相适配的内螺纹部5，金属外筒6一端开有第二穿孔4，旋拧工件包括卡盘3，且卡盘3一侧设有阶梯槽10，卡盘3远离阶梯槽10一面中部位置处螺接有支杆2，且支杆2远离卡盘3一端焊接有旋杆1。

本实用新型中，金属外筒6为多棱柱型结构，阶梯槽10规格与金属外筒6相适配。

以上所述，仅为本实用新型较佳的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，根据本实用新型的技术方案及其实用新型构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。