[实用新型]一种掩膜板清洗装置有效
申请号: | 201921340927.4 | 申请日: | 2019-08-19 |
公开(公告)号: | CN210666330U | 公开(公告)日: | 2020-06-02 |
发明(设计)人: | 张明 | 申请(专利权)人: | 深圳市海博源光电科技有限公司 |
主分类号: | G03F1/82 | 分类号: | G03F1/82 |
代理公司: | 深圳市世联合知识产权代理有限公司 44385 | 代理人: | 汪琳琳 |
地址: | 518000 广东省深圳市宝安区西*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 掩膜板 清洗 装置 | ||
本实用新型公开了一种掩膜板清洗装置,包括清洗箱、第一清洗槽、第二清洗槽、第三清洗槽以及第四清洗槽,所述第一清洗槽、第二清洗槽、第三清洗槽以及第四清洗槽内部均设有超声波发生器,且内部具有清洗液,所述第四清洗槽内部具有摆动清洗结构,所述清洗箱上具有夹取结构,本实用新型涉及掩膜板技术领域。本案提供一种利用清洗装置对掩膜板进行清洗,清洗为全自动清洁,通过多个不同深度的清洗池,完成最终的清洁。
技术领域
本实用新型涉及掩膜板制造技术领域,具体为一种掩膜板清洗装置。
背景技术
现有的掩膜板清洁过程均由人工手动操作实现,在清洗过程中,人工操作失误发生几率较大,容易造成对掩膜板的污染,一旦掩膜板上粘上不明液态污渍,则会造成曝光过程中的焦距变化和穿透率失真。而对其保护只能依赖于人员的细心和经验,使得掩膜板的良品率较低,掩膜板用于多种用途,掩膜板在使用一段时间后,其表面会受到污染,而在上述现有方案中,再生工序复杂,造价较高,而为了满足市场需求,当前只能在工序复杂、造价昂贵的情况下继续进行制造,浪费人力、物力以及财力。
实用新型内容
针对现有技术的不足,本实用新型提供了一种掩膜板清洗装置,解决了掩膜板在使用一段时间后,其表面会受到污染,为此需要更换新的掩膜板,形成新的掩膜板,而上述现有方案中,再生工序复杂,造价较高,而为了满足市场需求,只能通过工序复杂,造价昂贵的代价继续进行制造,浪费精力以及经济的技术问题。
为实现以上目的,本实用新型通过以下技术方案予以实现:一种掩膜板清洗装置,包括清洗箱、第一清洗槽、第二清洗槽、第三清洗槽以及第四清洗槽,其特征在于,所述第一清洗槽、第二清洗槽、第三清洗槽以及第四清洗槽内部均设有超声波发生器,且内部具有清洗液,所述第四清洗槽内部具有摆动清洗结构,所述清洗箱上具有夹取结构;
其中,夹取结构包含:安装架、移动机、移动板、电动杆、夹取架以及四个倒钩架;
所述安装架安置于清洗箱上,移动机装配在安装架上,移动板与移动机的移动端连接,电动杆垂直固定在移动板上,夹取架与电动杆伸缩端连接,所述四个倒钩架固定在夹取架底部;
所述摆动清洗结构包含:电机、清洗棒以及清洁刷;
所述电机安置于清洗箱内部,且位于第四清洗槽内,清洗棒与电机的驱动端连接,清洁刷与清洗棒连接;
优选的,所述移动机为直线模组平移台,且电性连接继电器。
优选的,所述电动杆为电动式推杆或伸缩电机。
优选的,所述电机采用防水电机,且与清洗箱之间具有固定架。
优选的,所述清洗箱底部具有四个支撑体;该支撑体对清洗箱进行支撑。
优选的,所述电动杆与移动板之间设有电机架;该电机架对电动杆固定。
有益效果
本实用新型提供了一种掩膜板清洗装置。具备以下有益效果,本案提供一种利用清洗装置对掩膜板进行清洗,清洗为全自动清洁,通过多个不同深度的清洗池,完成最终的清洁,通过对掩膜板的清洁,降低再生成本,且工序较为简单。
附图说明
图1为本实用新型所述一种掩膜板清洗装置的结构示意图。
图2为本实用新型所述一种掩膜板清洗装置的摆动清洗结构示意图。
图3为本实用新型所述一种掩膜板清洗装置的俯视结构示意图。
图4为本实用新型所述一种掩膜板清洗装置的摆动清洗结构的结构示意图。
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G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备