[实用新型]一种链式硅片清洗槽及硅片加工装置

权利要求书

1.一种链式硅片清洗槽，其特征在于，包括：

主水槽(1)；

运输滚轮(2)，所述运输滚轮(2)位于所述主水槽(1)上方，所述运输滚轮(2)被配置为驱动所述硅片(100)运动；

第一赶液轮(4)，所述第一赶液轮(4)设在所述主水槽(1)沿所述硅片运输方向的末端上方，所述第一赶液轮(4)被配置为将所述硅片(100)上的液体赶入所述主水槽(1)内；

喷淋机构(6)，所述喷淋机构(6)被配置为朝向所述硅片(100)喷射清洗液。

2.根据权利要求1所述的链式硅片清洗槽，其特征在于，所述主水槽(1)分隔为沿所述硅片(100)运动方向分布的前槽(11)和后槽(12)，所述前槽(11)具有前排水口(111)，所述后槽(12)具有后排水口(121)；所述链式硅片清洗槽还包括：

副水槽(5)，所述副水槽(5)具有副排水口(51)、副出水口(52)和副回水口(53)，所述副排水口(51)与所述前排水口(111)相连且与排水管(20)连通，所述副回水口(53)与所述后排水口(121)相连；一部分所述喷淋机构(6)与外部水源相连，另一部分所述喷淋机构(6)与所述副出水口(52)相连。

3.根据权利要求2所述的链式硅片清洗槽，其特征在于，所述链式硅片清洗槽还包括第二赶液轮(3)，所述第二赶液轮(3)设在所述前槽(11)朝向所述后槽(12)的一端上方，所述第二赶液轮(3)被配置为将所述硅片(100)上的液体赶入所述前槽(11)内。

4.根据权利要求2所述的链式硅片清洗槽，其特征在于，所述喷淋机构(6) 包括：

上喷淋组件(61)，所述上喷淋组件(61)位于所述主水槽(1)上方，所述上喷淋组件(61)与外部水源相连；

下喷淋组件(62)，所述上喷淋组件(61)位于所述主水槽(1)内，所述下喷淋组件(62)与副出水口(52)相连。

5.根据权利要求4所述的链式硅片清洗槽，其特征在于，所述上喷淋组件(61)包括：

上前喷淋头(611)，所述上前喷淋头(611)设在所述前槽(11)上方，所述上前喷淋头(611)的喷射方向朝向靠近所述后槽(12)的方向倾斜；

上后喷淋头(612)，所述上后喷淋头(612)设在所述后槽(12)上方，所述上后喷淋头(612)的喷射方向朝向靠近所述前槽(11)的方向倾斜。

6.根据权利要求5所述的链式硅片清洗槽，其特征在于，所述下喷淋组件(62)包括，

下前喷淋头(621)，所述下前喷淋头(621)设在所述前槽(11)内，且与所述上前喷淋头(611)关于所述硅片(100)的运输线对称设置；

下后喷淋头(622)，所述下后喷淋头(622)设在所述后槽(12)内，且与所述下前喷淋头(621)关于所述硅片(100)的运输线对称设置。

7.根据权利要求4中所述的链式硅片清洗槽，其特征在于，所述副水槽(5)内设有液位传感器(10)，所述下喷淋组件(62)与所述副出水口(52)之间设有水泵(9)，所述水泵(9)被配置为根据所述液位传感器(10)的检测结果调整工作状态。

8.根据权利要求1所述的链式硅片清洗槽，其特征在于，所述运输滚轮(2)包括；

上滚轮(21)，所述上滚轮(21)为多个，多个所述上滚轮(21)沿所述硅片(100)的运输方向间隔排布；

下滚轮(22)，所述下滚轮(22)为多个，多个所述下滚轮(22)沿所述硅片(100)的运输方向间隔排布；其中：

所述硅片(100)夹设在所述上滚轮(21)和所述下滚轮(22)之间，所述上滚轮(21)和所述下滚轮(22)的转动方向相反以驱动所述硅片(100)运动。

9.根据权利要求3所述的链式硅片清洗槽，其特征在于，所述第一赶液轮(4)和所述第二赶液轮(3)为圆柱体，且所述第一赶液轮(4)和所述第二赶液轮(3)的长度大于所述硅片(100)的长度。

10.一种硅片加工装置，其特征在于，包括权利要求1-9中任一项所述的链式硅片清洗槽。