[实用新型]一种链式硅片清洗槽及硅片加工装置

说明书

本实用新型公开了一种链式硅片清洗槽及硅片加工装置，该链式硅片清洗槽包括主水槽、运输滚轮、第一赶液轮和喷淋机构。运输滚轮位于主水槽上方，运输滚轮被配置为驱动硅片运动，第一赶液轮设在主水槽沿硅片运输方向的末端上方，第一赶液轮被配置为将硅片上的液体赶入主水槽内，喷淋机构被配置为朝向硅片喷射清洗液。该链式硅片清洗槽，由于第一赶液轮可将附着在硅片上的液体赶入主水槽内，降低了硅片被清洗完毕时其上附着的清洗液含量，从而降低了对后续工艺槽的影响。

技术领域

本实用新型涉及硅片加工设备技术领域，尤其涉及一种链式硅片清洗槽及硅片加工装置。

背景技术

常规的化石燃料，日益消耗殆尽，在现有的可持续能源中，光伏无疑是一种最清洁、最有潜力的新能源，光伏发电装置又称太阳能电池，可以将太阳能直接转换成电能，其发电原理是基于半导体PN结的光生伏特效应。光伏发电装置的核心是电池片，目前绝大多数都采用硅片制成。

目前大多数硅片采用链式酸刻蚀实现加工，经过扩散后片子在链式滚轮传送下依次通过刻蚀槽、第一水洗槽、碱槽、第二水洗槽、酸槽、第三水洗槽，烘干槽。在硅片行进过程中，硅片经过刻蚀槽时，会将部分刻蚀液带入第一水洗槽，从而导致第一水洗槽中含有一定浓度的刻蚀液，硅片离开第一水洗槽时，会将这部分刻蚀液带入碱槽，从而与碱槽溶液进行反应，降低碱槽溶液纯度，随着生产的进行，第一水洗槽中刻蚀液浓度逐步增大，碱槽浓度逐步降低，同理，酸槽浓度也降低。硅片在链式滚轮的运行下，持续将硅片表面的药液带入下一槽体，药液槽浓度不断降低，水洗槽的药液浓度不断上升，从而造成水洗效果差，且硅片采用浸没式，附在硅片上的脏污不易清洗。随着生产的持续进行，各槽体药液浓度波动，同时水洗槽的浓度不断上升，达不到理想清洗效果，容易造成批量硅片的质量不达标。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提出一种链式硅片清洗槽，该链式硅片清洗槽能够降低硅片离开清洗槽时附着的清洗液含量，降低了对后续工艺槽的影响。

本实用新型的另一个目的在于提出一种硅片加工装置，该硅片加工装置能够较好地保证各加工槽内加工液浓度，较好地保证了硅片加工的良品率。

为实现上述技术方效果，本实用新型实施例的链式硅片清洗槽的技术方案如下：

一种链式硅片清洗槽包括：主水槽；运输滚轮，所述运输滚轮位于所述主水槽上方，所述运输滚轮被配置为驱动所述硅片运动；第一赶液轮，所述第一赶液轮设在所述主水槽沿所述硅片运输方向的末端上方，所述第一赶液轮被配置为将所述硅片上的液体赶入所述主水槽内；喷淋机构，所述喷淋机构被配置为朝向所述硅片喷射清洗液。

在一些实施例中，所述主水槽分隔为沿所述硅片运动方向分布的前槽和后槽，所述前槽具有前排水口，所述后槽具有后排水口；所述链式硅片清洗槽还包括：副水槽，所述副水槽具有副排水口、副出水口和副回水口，所述副排水口与所述前排水口相连且与排水管连通，所述副回水口与所述后排水口相连；一部分所述喷淋机构与外部水源相连，另一部分所述喷淋机构与所述副出水口相连。

在一些实施例中，第二赶液轮，所述第二赶液轮设在所述前槽朝向所述后槽的一端上方，所述第二赶液轮被配置为将所述硅片上的液体赶入所述前槽内。

在一些实施例中，所述喷淋机构包括：上喷淋组件，所述上喷淋组件位于所述主水槽上方，所述上喷淋组件与外部水源相连；下喷淋组件，所述上喷淋组件位于所述主水槽内，所述下喷淋组件与副出水口相连。

在一些具体的实施例中，所述上喷淋组件包括：上前喷淋头，所述上前喷淋头设在所述前槽上方，所述上前喷淋头的喷射方向朝向靠近所述后槽的方向倾斜；上后喷淋头，所述上后喷淋头设在所述后槽上方，所述上后喷淋头的喷射方向朝向靠近所述前槽的方向倾斜。

在一些更具体的实施例中，所述上前喷淋头的喷射方向与竖直方向的夹角为5°-10°；所述上后喷淋头的喷射方向与竖直方向的夹角为5°-10°。