[实用新型]电感耦合等离子体处理装置

权利要求书

1.一种电感耦合等离子体处理装置，其特征在于，包括；

至少一个窗口；

窗框，支撑至少一个所述窗口；

腔室，收纳所述窗口和所述窗框，并以所述窗框为基准分隔成第一腔室和第二腔室，该第一腔室形成有以真空氛围对基板进行工艺处理的工艺空间，该第二腔室形成有以大气压氛围收纳天线的收纳空间；

盖，用于覆盖所述第二腔室的开放区域，该开放区域用于向所述收纳空间引入所述天线或从所述收纳空间引出所述天线；

多个支架，一侧连接到所述窗框，另一侧以可结合及可分离的方式与所述盖连接，用于限制所述窗口和所述窗框因自重而下垂；

多个结合件，从所述盖的外部贯通所述盖，能够分别结合于多个所述支架或从所述支架解除结合，

其中，当通过解除多个所述结合件的结合而使所述盖与多个所述支架分离时，所述盖从多个所述支架分离并从所述第二腔室脱离，以使所述收纳空间通过所述开放区域暴露。

2.根据权利要求1所述的电感耦合等离子体处理装置，其特征在于，

所述盖包括多个盖框架，多个所述盖框架对应于多个所述支架并以网格状配置在与所述窗框的平面平行的平面上，

在所述盖框架的侧面贯通形成有多个结合导孔，多个所述结合导孔对应于所述盖框架和多个所述支架的结合位置，以将多个所述结合件引导至所述结合位置。

3.根据权利要求1所述的电感耦合等离子体处理装置，其特征在于，

所述盖包括多个盖框架，多个所述盖框架对应于多个所述支架并以网格状配置在与所述窗框的平面平行的平面上，

所述盖框架呈上部和下部比连接所述上部和所述下部的连接部的截面宽度更长的工字梁形状，多个所述结合件贯通所述下部并结合于多个所述支架。

4.根据权利要求2或3所述的电感耦合等离子体处理装置，其特征在于，

当覆盖所述第二腔室的所述开放区域时，所述结合件将所述盖与所述支架彼此结合，

而当所述结合件解除所述盖与所述支架的结合时，所述盖从所述支架分离，以便允许接近所述第二腔室的收纳空间及所述窗口和所述窗框。

5.根据权利要求4所述的电感耦合等离子体处理装置，其特征在于，

所述天线连接到所述盖，当解除所述盖与所述支架的结合后，从所述支架分离所述盖并从所述第二腔室脱离时，所述天线与所述盖一同从所述第二腔室脱离。

6.根据权利要求4所述的电感耦合等离子体处理装置，其特征在于，

多个所述结合件贯通所述盖，并分别与多个所述支架形成螺纹结合或分离。