[实用新型]真空腔室的真空平衡结构

权利要求书

1.真空腔室的真空平衡结构，其特征在于，包括处于真空腔室内的治具板，所述治具板内设有内腔室；所述治具板上具有吸合面，所述吸合面上设置有静电吸片以及真空吸孔，所述真空吸孔与所述内腔室连通；所述治具板上设有连通孔以及平衡孔，所述连通孔及所述平衡孔分别连通所述内腔室及外部，真空发生器通过连接管与所述连通孔连接；所述平衡孔上设置有自动平衡结构，当所述内腔室内的压力大于所述真空腔室内的压力时，所述自动平衡结构打开所述平衡孔，所述内腔室与所述真空腔室连通。

2.如权利要求1所述的真空腔室的真空平衡结构，其特征在于，当所述内腔室内的压力与所述真空腔室的压力的差值超过设定范围时，所述自动平衡结构打开所述平衡孔；当所述内腔室内的压力与所述真空腔室内的压力的差值低于设定范围时，所述自动平衡结构封闭所述平衡孔。

3.如权利要求1或2所述的真空腔室的真空平衡结构，其特征在于，所述自动平衡结构包括弹片，所述弹片具有固定段以及受力相对于所述固定段弹性摆动的活动段，所述固定段固定连接在所述治具板上，所述活动段覆盖在所述平衡孔上；当所述活动段抵压在所述治具板上，所述活动段封闭所述平衡孔，当所述活，动段偏离所述治具板摆动后，所述平衡孔打开。

4.如权利要求3所述的真空腔室的真空平衡结构，其特征在于，所述治具板具有封闭面，所述平衡孔的开口形成在所述封闭面上；所述活动段具有朝向所述治具板的封闭面的抵压面，所述抵压面凸设有弹性层，当所述弹性层抵压在所述治具板的封闭面上后，所述弹性层封盖所述平衡孔的开口，封闭所述平衡孔。

5.如权利要求4所述的真空腔室的真空平衡结构，其特征在于，所述固定段与所述活动段呈弯折布置，沿所述固定段至所述活动段的延伸方向，所述活动段偏离所述治具板弯折布置。

6.如权利要求5所述的真空腔室的真空平衡结构，其特征在于，所述弹片具有背离所述治具板的外表面，所述弹片的外表面上设置有弯折过渡痕，所述弯折过渡痕形成在所述固定段与所述活动段的相对弯折处，所述弯折过渡痕上凸设有筋条，所述筋条沿着所述弯折过渡痕的长度方向延伸布置。

7.如权利要求6所述的真空腔室的真空平衡结构，其特征在于，所述弯折过渡痕呈弯曲状，所述弯折过渡痕的中部朝向所述活动段凸出。

8.如权利要求4所述的真空腔室的真空平衡结构，其特征在于，沿所述固定段至所述活动段的延伸方向，所述弹性层的厚度逐渐加大；所述弹性层上凸设有弹性的密封环，所述密封环具有朝向所述治具板布置的平整压面，当所述弹性层抵压在所述治具板的封闭面上后，所述密封环的平整压面抵压在所述治具板的封闭面上，且所述密封环环绕在所述平衡孔的开口的外周。

9.如权利要求8所述的真空腔室的真空平衡结构，其特征在于，所述封闭面上设有凹陷的封闭环槽，所述封闭环槽环绕在所述平衡孔的开口的外周，所述封闭环槽的宽度大于所述密封环的宽度；当所述弹性层抵压在所述治具板的封闭面上后，所述密封环置于所述封闭环槽中。

10.如权利要求9所述的真空腔室的真空平衡结构，其特征在于，所述封闭环槽的底部设置有回弹垫层，当所述密封环置于所述封闭环槽中后，所述密封环抵压着所述回弹垫层。