[实用新型]一种边定位机构

权利要求书

1.一种边定位机构，其特征在于，包括基台、吸附平台、边轮和定位组件；

所述吸附平台和边轮均设置在基台的顶部，所述吸附平台上开设有吸孔，所述边轮至少有两个，其分别位于吸附平台其中两个相邻的两个侧边处，所述定位组件包括定位轮和定位驱动源，所述定位驱动源设置在基台的底部，所述定位轮设置在定位驱动源的自由端，所述定位组件至少有两组，其定位轮分别位于吸附平台另外两个相邻的侧边处，所述边轮的部分圆周面和定位轮的部分圆周面均高于吸附平台的上表面，且部分侵入吸附平台内。

2.如权利要求1所述的边定位机构，其特征在于，所述基台的顶部嵌设有定位平台，所述定位平台和基台的内部密封为真空腔，所述吸附平台设置在定位平台上，所述吸孔与真空腔连通，所述定位平台上开设有用于收容边轮的收容槽和用于避让定位轮运动空间的避让槽，所述定位平台和吸附平台为一体成型。

3.如权利要求2所述的边定位机构，其特征在于，所述定位平台上开设有分辨槽，所述分辨槽包围在吸附平台的周圈。

4.如权利要求1所述的边定位机构，其特征在于，所述吸附平台的边角处开设有上下通透的照射孔。

5.如权利要求4所述的边定位机构，其特征在于，所述照射孔有两个，其分别位于吸附平台上的两个边角处，且此两个边角分别位于一个边轮的两侧。

6.如权利要求1所述的边定位机构，其特征在于，所述吸附平台其中一个侧边处的边轮至少有两个。

7.如权利要求1所述的边定位机构，其特征在于，所述基台上开设有通孔槽，所述定位驱动源的自由端设置有垂直于吸附平台的定位杆，所述定位杆自下而上穿过通孔槽，所述定位轮设置在定位杆的顶端。

8.如权利要求7所述的边定位机构，其特征在于，所述定位驱动源的自由端设置有支架二，所述支架二上设置有与其垂直的支架一，所述支架一平行于通孔槽，所述定位杆设置在支架一上，所述定位驱动源和支架一并列。

9.如权利要求8所述的边定位机构，其特征在于，所述支架一上设置有滑块，所述基台的底部设置有限位条，所述滑块滑动设置在限位条内，所述限位条与通孔槽平行。

10.如权利要求2所述的边定位机构，其特征在于，所述基台的侧面上开设有通孔口，所述通孔口分别连通外部气源与真空腔。