[实用新型]一种边定位机构

说明书

本实用新型公开了一种边定位机构，包括基台、吸附平台、边轮和定位组件；所述吸附平台和边轮均设置在基台的顶部，所述吸附平台上开设有吸孔，所述边轮至少有两个，其分别位于吸附平台其中两个相邻的两个侧边处，所述定位组件包括定位轮和定位驱动源，所述定位驱动源设置在基台的底部，所述定位轮设置在定位驱动源的自由端，所述定位组件至少有两组，其定位轮分别位于吸附平台另外两个相邻的侧边处，所述边轮的部分圆周面和定位轮的部分圆周面均高于吸附平台的上表面，且部分侵入吸附平台内。其能够快速、精确的完成定位，定位速度快、精度高，再现性好，结构简单，成本低。

技术领域

本实用新型涉及定位机构，具体涉及一种边定位机构。

背景技术

在生产的过程中，对于板状的物料来说，在如切割、测试等作业开始之前，通常需要对其进行精确的定位，以保证作业效果。常用的定位方式是软体定位。即在CCD取像后，使用软体对物料的角度、位置进行计算，而后驱动平台放置、移位，这增加了软体和与其配合的平台的复杂度，造价昂贵。且其定位过程通常包括识别物料、寻中心、旋转角度调节和位置调节等步骤，耗时较长；且移送时的偏差相对于作业精度来说较大，需要重复进行多次定位，效率较低。

实用新型内容

本实用新型要解决的技术问题是提供一种边定位机构，其能够快速、精确的完成定位，定位速度快、精度高，再现性好，结构简单，成本低。

为了解决上述技术问题，本实用新型提供了一种边定位机构，包括基台、吸附平台、边轮和定位组件；所述吸附平台和边轮均设置在基台的顶部，所述吸附平台上开设有吸孔，所述边轮至少有两个，其分别位于吸附平台其中两个相邻的两个侧边处，所述定位组件包括定位轮和定位驱动源，所述定位驱动源设置在基台的底部，所述定位轮设置在定位驱动源的自由端，所述定位组件至少有两组，其定位轮分别位于吸附平台另外两个相邻的侧边处，所述边轮的部分圆周面和定位轮的部分圆周面均高于吸附平台的上表面，且部分侵入吸附平台内。

作为优选的，所述基台的顶部嵌设有定位平台，所述定位平台和基台的内部密封为真空腔，所述吸附平台设置在定位平台上，所述吸孔与真空腔连通，所述定位平台上开设有用于收容边轮的收容槽和用于避让定位轮运动空间的避让槽，所述定位平台和吸附平台为一体成型。

作为优选的，所述定位平台上开设有分辨槽，所述分辨槽包围在吸附平台的周圈。

作为优选的，所述吸附平台的边角处开设有上下通透的照射孔。

作为优选的，所述照射孔有两个，其分别位于吸附平台上的两个边角处，且此两个边角分别位于一个边轮的两侧。

作为优选的，所述吸附平台其中一个侧边处的边轮至少有两个。

作为优选的，所述基台上开设有通孔槽，所述定位驱动源的自由端设置有垂直于吸附平台的定位杆，所述定位杆自下而上穿过通孔槽，所述定位轮设置在定位杆的顶端。

作为优选的，所述定位驱动源的自由端设置有支架二，所述支架二上设置有与其垂直的支架一，所述支架一平行于通孔槽，所述定位杆设置在支架一上，所述定位驱动源和支架一并列。

作为优选的，所述支架一上设置有滑块，所述基台的底部设置有限位条，所述滑块滑动设置在限位条内，所述限位条与通孔槽平行。

作为优选的，所述基台的侧面上开设有通孔口，所述通孔口分别连通外部气源与真空腔。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：

1、本实用新型通过在吸附平台相邻的两个侧边上分别设置边轮，能够限制物料的位置，同时经由定位轮往复推动，实现定位，定位速度快，定位效率高，且再现性好。

2、本实用新型通过设置吸附平台，能够在定位完成后，稳固物料的位置，避免作业过程中发生移位。

附图说明