[实用新型]一种晶片快速冲洗装置

说明书

本实用新型公开了一种晶片快速冲洗装置，包括箱体，所述箱体内设置有用于放置晶片固定夹具的提篮，所述箱体的左右两侧壁上各设置有喷水管，喷水管上并排设置有一组向晶片表面喷水的高压喷嘴；所述箱体上还设置有可移动的上盖。本实用新型能够实现晶片批量快速的清洗，同时，能够保证清洗时，水不溅到外面，从而保证室内环境的整洁性，可广泛应用于晶片的清洗加工领域。

技术领域

本实用新型涉及晶片生产加工领域，尤其是涉及一种晶片快速冲洗装置。

背景技术

晶片在生产加工过程中需要进行清洗，保证晶片的清洁度，现有晶片主要通过水洗，然后再进行烘干，烘干完成后进行后续加工，从而保证晶片的加工质量。在水洗过程中，即要保证水洗的清洁性，又要提高晶片的清洗效率，从而提高整个晶片的加工效率。同时，还需要保证晶片清洗后方便搬运，保证搬运过程的清洁性，防止晶片遭到二次污染。

实用新型内容

本实用新型的目的是提供一种晶片快速冲洗装置，解决现有晶片清洗效率低的问题。

本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是：一种晶片快速冲洗装置，包括箱体，所述箱体内设置有用于放置晶片固定夹具的提篮，所述箱体的左右两侧壁上各设置有喷水管，喷水管上并排设置有一组向晶片表面喷水的高压喷嘴；所述箱体上还设置有可移动的上盖。

为方便向下冲洗晶片，所述上盖上设置有并排设置有一组喷水管，喷水管上并排设置有一组向下喷水的高压喷嘴；为方便打开上盖，所述箱体上设置有滑道，所述上盖的两侧安装有在滑道上滚动的滚轮。

为方便观察箱体内的清洗情况，所述上盖为透明材料制得。

为防止水珠停留在上盖内壁上，影响观察，所述上盖的内壁上贴有一层疏水膜。

为减少对晶片冲洗的影响，所述提篮采用不锈钢管制成的框架结构。

为及时排出污水，所述箱体的底部中间设置有排水槽，排水槽内设置有排水孔。

本实用新型的有益效果：本实用新型通过设计一个封闭的清洗箱体，并在箱体内壁上设置一组高压喷嘴对晶片进行冲洗，冲洗效率高，效果好。同时，通过在箱体内放置提篮，将装满晶片的晶片固定夹具直接放置在提篮上即可，操作简单，方便，不需要将每个晶片取下进行清洗，从而提高了整个过程的效率。所述上盖设置一组向下的高压喷嘴，对晶片进行冲洗，使晶片表面的污物快速充入箱体底部，并从箱体底部的排水孔排出。所述上盖采用透明材料制备，方便观察箱体内的清洗情况，同时，疏水膜能够防止水珠散布在上盖上，影响操作人员向内观察。所述上盖采用滑动的结构，方便开启和关闭。整个清洗过程在一个封闭的腔体内完成，从而保证了现场环境的整洁性。

以下将结合附图和实施例，对本实用新型进行较为详细的说明。

附图说明

图1为本实用新型的立体结构示意图。

图2为本实用新型中箱体的俯视图。

图3为本实用新型中装有晶片固定夹具的提篮的立体结构示意图。

具体实施方式

实施例，如图1至3所示，一种晶片快速冲洗装置，包括箱体1，整个箱体1为上部开口的长方体结构。所述箱体1的底部中间设置有排水槽102，排水槽102内设置有排水孔103。所述箱体1内设置有用于放置晶片固定夹具的提篮2，晶片放置在晶片固定夹具上，晶片固定夹具安放在提篮2上。所述提篮2采用不锈钢管制成的框架结构，该结构即方便晶片固定夹具的安放，同时，又能够尽量减少对晶片冲洗的阻挡。所述箱体1的左右两侧壁上各设置有两根喷水管3，两根喷水管3上下并排设置。喷水管3上并排设置有一组向晶片表面喷水的高压喷嘴4，高压喷嘴4的出水口倾斜向下设置。