[实用新型]一种探测器芯片有效
申请号: | 201921551740.9 | 申请日: | 2019-09-18 |
公开(公告)号: | CN210778612U | 公开(公告)日: | 2020-06-16 |
发明(设计)人: | 廖世容;万远涛 | 申请(专利权)人: | 浙江光特科技有限公司 |
主分类号: | H01L31/0203 | 分类号: | H01L31/0203;H01L31/105 |
代理公司: | 绍兴普华联合专利代理事务所(普通合伙) 33274 | 代理人: | 桑杨 |
地址: | 312000 浙江省绍兴市*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 探测器 芯片 | ||
本实用新型公开一种探测器芯片,包括衬底、有源层、N型电极、P型电极、支撑柱,衬底上设置有源层,有源层包括N型半导体层、P型半导体层、吸收层,吸收层为InGaAs吸收层,采用光刻、腐蚀工艺去掉衬底上有源层的一部分,采用光刻、蒸发、溅射、电镀的方式在衬底上制成N型电极。本实用新型结构简单,在芯片上设置支撑柱,有效防止研磨过程中芯片表面的损伤。
技术领域
本实用新型涉及台面芯片技术领域,具体涉及一种探测器芯片。
背景技术
近年来,为了满足人们对信息传递的要求,光通信网络逐步向高速、全光网方向发展。半导体光电探测器作为光通信网络中重要的接收器件,其性能影响整个光通信网络的运转。评价光电探测器的主要指标有:响应度、暗电流、-3dB带宽、响应波长范围等,此外还有工艺难度、生产成本和是否易于光电集成等因素。
探测器芯片作为台面型芯片的一种,在制作过程中需要对衬底的底面进行研磨,研磨过程中芯片最高处与压力件直接接触,在研磨的过程中会芯片最高处出现损伤。
实用新型内容
本实用新型的目的在于克服现有技术的不足,提供一种探测器芯片。
为实现上述目的,本实用新型提供了如下技术方案来实现的:
一种探测器芯片,包括衬底、有源层、N型电极、P型电极、支撑柱,在衬底上生长有源层,有源层包括N型半导体层、P型半导体层、吸收层,吸收层为采用InGaAs材料制成,采用光刻、腐蚀工艺去掉衬底上有源层的一部分使衬底露出,在衬底露出的部分采用光刻、蒸发、溅射、电镀的方式制成N型电极,再采用光刻、蒸发、溅射、电镀的方式在有源层上制成P型电极,支撑柱的最高点高于P型电极的最高点。
作为优选,支撑柱的截面为圆形或者矩形或者多边形。
作为优选,支撑柱的数量为一个,设置在芯片四个边角处的其中一个;或者支撑柱的数量为两个,设置在芯片四个边角处中对称的两个;或者支撑柱的数量为四个,分别设置在芯片的四个边角处。
作为优选,支撑柱设置在衬底露出的部分上;或者,支撑柱设置在有源层上。
作为优选,支撑柱的材料为Ti、Pt、Cr、Au中的一种或者几种组合。
作为优选,衬底为磷化铟衬底、硅衬底或砷化镓衬底。
作为优选,所述支撑柱可以是通过蒸发的方式,也可以通过刻蚀的方法形成,所述刻蚀可以采用干法刻蚀也可以采用湿法刻蚀。
与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:对衬底底面进行研磨时,由支撑柱顶端代替芯片与陶瓷盘接触,避免在研磨过程中芯片表面压在陶瓷盘上而摩擦受损。
附图说明
图1为本实用新型的结构示意图;
图2为本实用新型另一实施例的结构示意图;
图3为本实用新型中有源层的结构示意图。
附图标记:1、衬底;2、有源层;3、N型电极;4、P型电极;5、支撑柱;21、N型半导体层;22、吸收层;23、P型半导体层。
具体实施方式
下面结合附图1-3对本本实用新型的实施例进行详细阐述。
实施例1
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的