[实用新型]一种可熔性PTFE氟化处理设备

权利要求书

1.一种可熔性PTFE氟化处理设备，其特征在于：包括处理罐和支撑底座，所述处理罐上设置有推动组件，所述支撑底座包括支撑面板和底支架，所述处理罐位于所述支撑面板上，所述支撑面板可调节安装在所述底支架的上方。

2.根据权利要求1所述的一种可熔性PTFE氟化处理设备，其特征在于：所述处理罐的顶部外侧壁上左右对称设置有两个固定耳，所述固定耳上设置有吊装孔。

3.根据权利要求2所述的一种可熔性PTFE氟化处理设备，其特征在于：所述推动组件包括半弧环和推杆，所述半弧环与所述处理罐的外侧壁相匹配，所述半弧环的两端均设置有水平板，所述水平板上设置有定位杆，所述定位杆与所述吊装孔相匹配，所述定位杆卡接在所述吊装孔内，所述定位杆的端部旋入紧固螺母实现所述水平板与所述固定耳之间的安装固定，所述推杆与所述半弧环固定连接。

4.根据权利要求1所述的一种可熔性PTFE氟化处理设备，其特征在于：所述底支架包括底板和限位柱，所述限位柱均匀分布在所述底板的底面四周角上，所述限位柱的顶面上设置有调节槽。

5.根据权利要求4所述的一种可熔性PTFE氟化处理设备，其特征在于：所述支撑面板的底面四周角上均设置有插杆，所述插杆与调节槽相匹配，所述插杆插接在所述调节槽内，且所述插杆通过紧定螺钉与所述限位柱抵紧限位。

6.根据权利要求1所述的一种可熔性PTFE氟化处理设备，其特征在于：所述处理罐的底面外圆周面上设置有加强环，所述加强环的底面上设置有环槽，所述支撑面板的顶面上设置有插环，所述插环与所述环槽相匹配，所述插环卡接在所述环槽内。

7.根据权利要求6所述的一种可熔性PTFE氟化处理设备，其特征在于：所述加强环通过Z型折板与所述支撑面板固定连接，所述Z型折板均匀分布在所述支撑面板的四侧中部，所述Z型折板的两端分别与所述支撑面板、所述加强环螺钉固定。

8.根据权利要求4所述的一种可熔性PTFE氟化处理设备，其特征在于：所述支撑面板的中心处设置有穿孔，所述穿孔的孔径不小于所述处理罐的外径。

9.根据权利要求8所述的一种可熔性PTFE氟化处理设备，其特征在于：所述底板的顶面中心处固定安装有升降柱，所述升降柱的顶部穿过所述穿孔与所述处理罐的底面螺钉固定。