[实用新型]一种新型掩膜版

权利要求书

1.一种新型掩膜版，包括掩膜版本体，所述掩膜版本体的下表面设有遮光层形成遮光区，所述掩膜版本体的下表面还形成有透光区，所述掩膜版的下方还设有曝光基板，所述曝光基板对应掩膜版的透光区形成曝光区，其特征在于，所述掩膜版本体的下表面、对应透光区还向内开设有凹槽，所述凹槽的内表面包括与掩膜版本体的下表面平行的第一表面以及与第一表面两端连接的两个内凹曲面，所述内凹曲面使边缘的偏折光束发生全反射。

2.如权利要求1所述的一种新型掩膜版，其特征在于，所述遮光层的遮光材料为黑色光阻或者反射金属。

3.如权利要求1所述的一种新型掩膜版，其特征在于，所述掩膜版本体的材质为石英玻璃。

4.如权利要求1所述的一种新型掩膜版，其特征在于，所述曝光基板的材质为石英玻璃。

5.如权利要求3所述的一种新型掩膜版，其特征在于，所述偏折光束的入射角为大于42°，所述内凹曲面在偏折光束入射的位置倾斜度小于48°。

6.如权利要求1所述的一种新型掩膜版，其特征在于，所述内凹曲面为平滑曲线的曲面，所述内凹曲面的宽度为0.5μm。