[实用新型]一种新型掩膜版

说明书

本实用新型公开了一种新型掩膜版，包括掩膜版本体，所述掩膜版本体的下表面设有遮光层形成遮光区，所述掩膜版本体的下表面还形成有透光区，所述掩膜版的的下方还设有曝光基板，所述曝光基板对应掩膜版的透光区形成曝光区，所述掩膜版本体的下表面、对应透光区还向内开设有凹槽，所述凹槽的内表面包括与掩膜版本体的下表面平行的第一表面以及与第一表面两端连接的两个内凹曲面，所述内凹曲面使边缘的偏折光束发生全反射，可以使得曝光基板的曝光区不会增大，提高曝光机的加工精度，可以生产更高分辨率、高开口率的产品。

技术领域

本发明涉及显示产品中的曝光技术领域，更具体地涉及一种新型掩膜版。

背景技术

在显示器或者半导体产品的生产过程中，通常需要使用掩膜版来进行曝光工艺，传统的掩膜版为在匀质均厚的石英基板上，镀一层铬膜或其他遮光材料，从而形成遮光区和漏光的透光区。

在理想状态下，掩膜版和玻璃基板呈水平放置，使用绝对平行的竖向光束透过掩膜版上的透光区域，可以在玻璃基板上得到对应平行竖向光束宽度的曝光区域，但在实际曝光工艺中，如图1所示，由于光束中包含了很多偏折光束，只能得到近似平行的竖向光束，那么偏折光束经过掩膜版的水平下表面折射后，会偏折到玻璃基板上对应的遮光区域，使得实际得到的曝光宽度值W1大于掩膜版上透光区域的宽度值W2。

现有技术中也有通过将掩膜版上透光区域的宽度值适当减小的做法来进行补偿，但对于高精度产品，掩膜版上透光区域的宽度值越小，光的衍射现象也越严重，衍射现象造成光束能量降低，很有可能会加剧实际曝光宽度值大于掩膜版上透光区域的宽度值的现象。

发明内容

为了解决所述现有技术的不足，本发明提供了一种新型掩膜版，通过在掩膜版本体的下表面向内开设有凹槽，凹槽的内表面包括与掩膜版本体的下表面平行的第一表面以及与第一表面两端连接的两个内凹曲面，可以使得透光区边缘的偏折光束会经过内凹曲面发生全反射，使得曝光基板的曝光区不会增大，提高曝光机的加工精度，可以生产更高分辨率、高开口率的产品。

本发明所要达到的技术效果通过以下方案实现：一种新型掩膜版，包括掩膜版本体，所述掩膜版本体的下表面设有遮光层形成遮光区，所述掩膜版本体的下表面还形成有透光区，所述掩膜版的的下方还设有曝光基板，所述曝光基板对应掩膜版的透光区形成曝光区，所述掩膜版本体的下表面、对应透光区还向内开设有凹槽，所述凹槽的内表面包括与掩膜版本体的下表面平行的第一表面以及与第一表面两端连接的两个内凹曲面，所述内凹曲面使边缘的偏折光束发生全反射。

优选地，所述遮光层的遮光材料为黑色光阻或者反射金属。

优选地，所述掩膜版本体的材质为石英玻璃。

优选地，所述曝光基板的材质为石英玻璃。

优选地，所述偏折光束的入射角为大于42°，所述内凹曲面在偏折光束入射的位置倾斜度小于48°。

优选地，所述内凹曲面为平滑曲线的曲面，所述内凹曲面的宽度为0.5μm。

本发明具有以下优点：

通过在掩膜版本体的下表面向内开设有凹槽，凹槽的内表面包括与掩膜版本体的下表面平行的第一表面以及与第一表面两端连接的两个内凹曲面，可以使得透光区边缘的偏折光束会经过内凹曲面发生全反射，使得曝光基板的曝光区不会增大，提高曝光机的加工精度，可以生产更高分辨率、高开口率的产品。

附图说明

图1为现有技术中掩膜版曝光的结构示意图；

图2为本发明中一种新型掩膜版曝光的结构示意图。

具体实施方式