[实用新型]液氮灌注系统

权利要求书

1.一种液氮灌注系统，其特征在于，包括：真空冷罐(1)、真空杜瓦(2)以及控制系统；所述控制系统其用于检测所述真空杜瓦(2)内的压力以及所述真空冷罐(1)内的压力和液位，所述控制系统构造为当所述真空冷罐(1)内的液位低于第一预设液位时，所述控制系统调节所述真空冷罐(1)内的压力以及所述真空杜瓦(2)内的压力，使得所述真空杜瓦(2)内的压力高于所述真空冷罐(1)内的压力时，将所述真空杜瓦(2)内的液氮灌注到所述真空冷罐(1)内。

2.根据权利要求1所述的液氮灌注系统，其特征在于，所述控制系统包括：

检测组件，其用于检测所述真空冷罐(1)内的压力、所述真空杜瓦(2)内的压力和所述真空冷罐(1)内的液位，并将检测到的压力数据和液位数据发送至控制器；

压力调节组件，其用于调节所述真空冷罐(1)和所述真空杜瓦(2)内的压力；

灌注组件，其包括连通所述真空冷罐(1)的入口与所述真空杜瓦(2)的出口之间的管路和控制所述管路通断的灌注电磁阀(11)；

杜瓦灌注控制阀(12)，其设置在所述真空杜瓦(2)上，用于控制所述真空杜瓦(2)的出口的开闭；以及

控制器，其用于接收并处理来自所述检测组件的压力数据和液位数据，所述控制器构造为当所述真空冷罐(1)的液位低于第一预设液位时，所述控制器控制所述压力调节组件以调节所述真空冷罐(1)和所述真空杜瓦(2)的压力，使得所述真空杜瓦(2)的压力高于所述真空冷罐(1)的压力；在所述真空杜瓦(2)的压力高于所述真空冷罐(1)的压力的情况下，所述控制器控制所述灌注电磁阀(11)以及所述杜瓦灌注控制阀(12)开启，使所述真空杜瓦(2)内的液氮能够灌注到所述真空冷罐(1)内。

3.根据权利要求2所述的液氮灌注系统，其特征在于，所述检测组件包括：

压力传感器，其数量至少为两个，两个所述压力传感器分别设置在所述真空冷罐(1)和所述真空杜瓦(2)的内部，两个所述压力传感器分别用于检测所述真空冷罐(1)和所述真空杜瓦(2)内的压力；以及

第一液位计(3)，其设置在所述真空冷罐(1)内，用于检测所述真空冷罐(1)内液氮的液位。

4.根据权利要求2或3所述的液氮灌注系统，其特征在于，所述压力调节组件包括：冷罐泄放调压阀(7)和冷罐增压阀(8)，所述冷罐泄放调压阀(7)和所述冷罐增压阀(8)均设置在所述真空冷罐(1)上，用于调节所述真空冷罐(1)内的气压；以及

杜瓦增压阀(9)和杜瓦泄压阀(10)，所述杜瓦增压阀(9)和所述杜瓦泄压阀(10)均设置在所述真空杜瓦(2)上，用于调节所述真空杜瓦(2)内的压力。

5.根据权利要求2或3所述的液氮灌注系统，其特征在于，所述灌注系统还包括液氮快插头，所述液氮快插头设置在所述灌注电磁阀(11)和所述真空杜瓦(2)的出口之间的管路上。

6.根据权利要求2或3所述的液氮灌注系统，其特征在于，所述灌注系统还包括超压泄放电磁阀(14)，所述超压泄放电磁阀(14)设置在所述灌注电磁阀(11)和所述真空杜瓦(2)的出口之间的管路上。

7.根据权利要求2或3所述的液氮灌注系统，其特征在于，所述灌注组件还包括真空灌注管(15)，所述真空灌注管(15)与所述真空杜瓦(2)的出口相连。

8.根据权利要求2或3所述的液氮灌注系统，其特征在于，所述检测组件还包括设置在所述真空杜瓦(2)内的第二液位计(16)，所述第二液位计(16)用于检测所述真空杜瓦(2)内液氮的液位。

9.根据权利要求2或3所述的液氮灌注系统，其特征在于，所述灌注电磁阀(11)的安装方向与所述液氮灌注时的流向相反。

10.根据权利要求6所述的液氮灌注系统，其特征在于，所述超压泄放电磁阀(14)的安装方向与氮气泄出的方向相同。