[实用新型]液氮灌注系统

说明书

本实用新型提出了一种液氮灌注系统，包括：真空冷罐、真空杜瓦以及控制系统；所述控制系统其用于检测所述真空杜瓦内的压力以及所述真空冷罐内的压力和液位，并且当所述真空冷罐内的液位低于第一预设液位时，调节所述真空冷罐内的压力以及所述真空杜瓦内的压力，使得所述真空杜瓦内的压力高于所述真空冷罐内的压力，再将真空杜瓦内的液氮灌注到真空冷罐内。本实用新型有效地解决液氮灌注时由于需要灌注的罐体压力高于灌注杜瓦，而出现灌注缓慢或倒灌的现象。通过设置控制系统，实现液氮的自动灌注。通过设置超压泄放电磁阀以及安全阀，提高了系统的安全性。通过设置真空灌注管，避免了灌注过程中真空杜瓦与灌注组件接口处结霜造成的拆卸困难。

技术领域

本实用新型涉及一种液氮灌注设备，尤其涉及一种液氮灌注系统。

背景技术

现在常使用的液氮灌注方式多为单独阀门控制方式，在进行这种液氮介质的灌注过程中并不能很好的进行超压泄压控制，在灌注过程中往往由于需要灌注的罐体压力高于灌注杜瓦，而出现灌注缓慢或倒灌的现象；另一方面，在手术室内，如使用传统敞口灌注方式，噪音比较大，并对周围温度影响较大，常常有白色烟雾喷出，影响手术环境。

实用新型内容

针对上述现有技术中的不足，本实用新型的目的在于提供一种液氮灌注系统，其可有效地解决由于需要灌注的罐体压力高于灌注杜瓦，而出现灌注缓慢或倒灌的现象。

本实用新型提供的一种液氮灌注系统，包括真空冷罐、真空杜瓦以及控制系统；所述控制系统其用于检测所述真空杜瓦内的压力以及所述真空冷罐内的压力和液位，所述控制系统构造为当所述真空冷罐内的液位低于第一预设液位时，所述控制系统调节所述真空冷罐内的压力以及所述真空杜瓦内的压力，使得所述真空杜瓦内的压力高于所述真空冷罐内的压力时，将所述真空杜瓦内的液氮灌注到所述真空冷罐内。

优选地，所述控制系统包括：

检测组件，其用于检测所述真空冷罐内的压力、所述真空杜瓦内的压力和所述真空冷罐内的液位，并将检测到的压力数据和液位数据发送至控制器；

压力调节组件，其用于调节所述真空冷罐和所述真空杜瓦内的压力；

灌注组件，其包括连通所述真空冷罐的入口与所述真空杜瓦的出口之间的管路和控制所述管路通断的灌注电磁阀；

杜瓦灌注控制阀，其设置在所述真空杜瓦上，用于控制所述真空杜瓦的出口的开闭；以及

控制器，其用于接收并处理来自所述检测组件的压力数据和液位数据，所述控制器构造为当所述真空冷罐的液位低于第一预设液位时，所述控制器控制所述压力调节组件以调节所述真空冷罐和所述真空杜瓦的压力，使得所述真空杜瓦的压力高于所述真空冷罐的压力；在所述真空杜瓦的压力高于所述真空冷罐的压力的情况下，所述控制器控制所述灌注电磁阀以及所述杜瓦灌注控制阀开启，使所述真空杜瓦内的液氮能够灌注到所述真空冷罐内。

优选地，所述检测组件包括：

压力传感器，其数量至少为两个，两个所述压力传感器分别设置在所述真空冷罐和所述真空杜瓦的内部，两个所述压力传感器分别用于检测所述真空冷罐和所述真空杜瓦内的压力；以及

第一液位计，其设置在所述真空冷罐内，用于检测所述真空冷罐内液氮的液位。

优选地，所述压力调节组件包括：冷罐泄放调压阀和冷罐增压阀，所述冷罐泄放调压阀和所述冷罐增压阀均设置在所述真空冷罐上，用于调节所述真空冷罐内的气压；以及

杜瓦增压阀和杜瓦泄压阀，所述杜瓦增压阀和所述杜瓦泄压阀均设置在所述真空杜瓦上，用于调节所述真空杜瓦内的压力。

优选地，所述灌注系统还包括液氮快插头，所述液氮快插头设置在所述灌注电磁阀和所述真空杜瓦的出口之间的管路上。