[实用新型]一种低阻抗铜膜

说明书

一种低阻抗铜膜，包括基材层、起导电功能的纳米铜层，还包括设置于基材层与纳米铜层之间增强纳米铜层的附着力的二氧化锆连接层、覆盖于纳米铜层上改善纳米铜层视觉效果的黑化层。本实用新型提供了一种低阻抗铜膜，在基材层上溅射纳米铜层之前，先在基材层上溅射一层二氧化锆连接层，从而大大提高了纳米铜层相对基材层的附着力，避免纳米铜层相对基材层脱膜现象，制程简单、良率高，构造组合耐弯折性好，尤其适合大尺寸触摸屏，结合黑化层大大减低铜反射，改善视觉效果。

技术领域

本实用新型涉及一种低阻抗铜膜。

背景技术

铜膜，主要包括起导电功能的纳米铜层。作为平板电脑、教学一体机、智能电视等大尺寸触控产品的导电材料，是触控通道、感应线路和FPC板的主要导电介质。表面方阻极低，在线回路中可降低功耗，对于线路损耗较大的大尺寸触控屏来讲，铜膜是一种绝佳的导电材料。适于制成窄边框、超窄边框触控屏，大大提高触控屏的有效显示区域比率（屏占比），符合消费者对大屏显示需求和便携性需求兼顾的发展趋势。但是目前最大的问题的，纳米铜层不能够很好的附着，脱膜现象严重。

实用新型内容

本实用新型要解决的技术问题是提供一种低阻抗铜膜。

为了解决上述技术问题，本实用新型采用的技术方案是：一种低阻抗铜膜，包括基材层、起导电功能的纳米铜层，还包括设置于所述基材层与所述纳米铜层之间增强所述纳米铜层的附着力的二氧化锆连接层、覆盖于所述纳米铜层上改善所述纳米铜层视觉效果的黑化层。

在某些实施方式中，所述基材层的厚度为50um-125um。

在某些实施方式中，所述二氧化锆连接层的厚度为5-20nm。

在某些实施方式中，所述纳米铜层的厚度为200-1000nm。

在某些实施方式中，所述黑化层的厚度为10-50nm。

在某些实施方式中，所述基材层为聚对苯二甲酸乙二酯薄膜（PET膜）、聚酰亚胺薄膜（PI膜)、聚碳酸酯薄膜（PC膜)、聚甲基丙烯酸甲酯薄膜（PMMA膜)、聚脂塑料薄膜、环氧塑料薄膜中的一种。

在某些实施方式中，所述基材层的反面覆盖有PET高温保护膜层，厚度为50-125um。

在某些实施方式中，所述黑化层上覆盖有PE保护膜或PP保护膜层，厚度为30-50nm。

在某些实施方式中，所述二氧化锆连接层是由二氧化锆靶材通过溅射工艺形成于所述基材层上的，所述黑化层是由氮化铜靶材，或者结合氧化铜靶材、铜铬合金靶材与氧化铬合金靶材中的一种通过溅射工艺形成于所述纳米铜层上的。

本实用新型的范围，并不限于上述技术特征的特定组合而成的技术方案，同时也应涵盖由上述技术特征或其等同特征进行任意组合而形成的其它技术方案。例如上述特征与本申请中公开的（但不限于）具有类似功能的技术特征进行互相替换而形成的技术方案等。

由于上述技术方案运用，本实用新型与现有技术相比具有下列优点：本实用新型提供了一种低阻抗铜膜，在溅射纳米铜层之前，先在基材层上溅射一层二氧化锆连接层，从而大大提高了纳米铜层相对基材层的附着力，避免纳米铜层相对基材层脱膜现象，制程简单、良率高，构造组合耐弯折性好，尤其适合大尺寸触摸屏，结合黑化层大大减低铜反射，改善视觉效果。

附图说明

附图1为本实用新型截面构造示意图；

其中: 10、基材层；11、二氧化锆连接层；12、纳米铜层；13、黑化层；14、PE保护膜或PP保护膜层；15、PET高温保护膜层。

具体实施方式

如附图1所示，一种低阻抗铜膜，包括基材层10，基材层10为聚对苯二甲酸乙二酯薄膜PET膜，厚度为125um。