[实用新型]紫外光固化装置有效

专利信息
申请号: 201921603197.2 申请日: 2019-09-24
公开(公告)号: CN211134521U 公开(公告)日: 2020-07-31
发明(设计)人: 贡禕琪 申请(专利权)人: 上海华力微电子有限公司
主分类号: B05D3/06 分类号: B05D3/06
代理公司: 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 代理人: 曹廷廷
地址: 201315*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 紫外 光固化 装置
【说明书】:

实用新型提供了一种紫外光固化装置,所述紫外光固化装置包括发光单元、光强检测单元以及与所述发光单元和所述光强检测单元分别连接的功率调节单元;所述发光单元提供UV光线,所述光强检测单元能够检测到所述UV光线的光强,所述功率调节单元根据所述光强检测单元检测到的所述UV光线的光强调节所述发光单元的功率,由此,调节所述UV光线的光强。能够对所述光强进行实时检测,及时的调整工艺参数,提高加工工艺的精度,以及能够避免人员对设备定期检查的危害。

技术领域

本实用新型涉及半导体器件制造技术领域,特别涉及一种紫外光固化装置。

背景技术

低k介电薄膜通过CVD(化学汽相沉积)或旋转涂覆工艺可沉积在晶圆上。基于诸多原因,在沉积之后通过紫外光(UV)照射固化这些介电材料,这些原因包括提高和/或恢复薄膜材料的物理属性,诸如增强弹性模量或硬度以改善机械强度用于较高的封装量和/或更好地抵挡诸如蚀刻、化学清洗、CMP(化学机械抛光)、引线接合等的沉积后工艺。此外,UV固化用于修复由诸如氟和氮的化学品导致的对薄膜的损坏,以及用于恢复在一些薄膜后沉积工艺期间可增强的薄膜低k属性。在晶圆沉积低K介电薄膜之后需要增加UV固化从而降低K值,但是UV固化的过程是一个有一定消耗的工艺,其中,需要经常手动调整参数,比如需要调整UV光强的能力从而调整介电薄膜的收缩,对设备进行维护时,存在一定的风险,会造成对人员的伤害,以及需要花费大量的时间进行定期检查。

在UV固化低K介电薄膜期间,为了保持良好的工艺,晶圆的表面上方需要具有均匀的UV固化强度以避免产生在晶圆的部分处出现薄膜缩小的问题,可能会导致器件性能的可变性。现有技术的紫外光固化装置,不能实时反馈光强,从而对紫外光固化装置的功率以及收缩率不能实时监控,其延时反馈,会造成紫外光固化装置出现故障时不能及时维修,会对产品造成损伤,使得加工工艺下降;以及需要花费大量的时间进行维修。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种紫外光固化装置,以解决现有技术中的紫外光固化装置的光强反馈延时以及需要手动调节的问题。

为解决上述技术问题,本实用新型提供一种紫外光固化装置,所述紫外光固化装置包括:

发光单元、光强检测单元以及与所述发光单元和所述光强检测单元分别连接的功率调节单元;其中,

所述发光单元提供UV光线;所述光强检测单元检测所述UV光线的光强;所述功率调节单元根据所述光强检测单元检测到的所述UV光线的光强调节所述发光单元的功率,从而调节所述发光单元发出的所述UV光线的光强。

可选的,在所述的紫外光固化装置中,所述光强检测单元包括光照传感器和数字控制器,所述光照传感器与所述数字控制器连接,所述光照传感器检测所述UV光线的光强,并将所述光强转换成电信号传输到所述数字控制器以计算所述光强值。

可选的,在所述的紫外光固化装置中,所述光照传感器设置于所述发光单元的表面。

可选的,在所述的紫外光固化装置中,所述发光单元包括至少两个UV灯。

可选的,在所述的紫外光固化装置中,所述发光单元还包括第一反射器和第二反射器,所述第一反射器和第二反射器能够对所述UV光线进行反射以形成UV反射光线。

可选的,在所述的紫外光固化装置中,所述第一反射器和所述第二反射器分别设置在所述UV灯的两相对侧,所述第一反射器较所述第二反射器靠近所述UV灯。

可选的,在所述的紫外光固化装置中,所述紫外光固化装置还包括一石英窗,所述石英窗位于所述UV反射光线的路径上,所述UV反射光线能够穿过所述石英窗。

可选的,在所述的紫外光固化装置中,所述紫外光固化装置还包括一腔室,所述腔室具有一开口,所述开口朝向所述石英窗。

可选的,在所述的紫外光固化装置中,所述腔室内设有支撑架,所述支撑架能够承载晶圆。

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