[实用新型]一种关于4路架构导风罩的架构有效

专利信息
申请号: 201921641352.X 申请日: 2019-09-29
公开(公告)号: CN210666645U 公开(公告)日: 2020-06-02
发明(设计)人: 王欢 申请(专利权)人: 苏州浪潮智能科技有限公司
主分类号: G06F1/20 分类号: G06F1/20;G06F1/18
代理公司: 济南诚智商标专利事务所有限公司 37105 代理人: 李修杰
地址: 215100 江苏省苏州市吴*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 关于 架构 导风罩
【说明书】:

实用新型提供了一种关于4路架构导风罩的架构,属于服务器技术领域。其技术方案为:包括导风罩本体,导风罩本体上设置风道,风道包括前方区域以及后方区域,左侧中央处理器风道的前方区域与后方区域在同一水平面内,右侧中央处理器风道的前方区域与后方区域在同一水平面内,左侧内存风道的前方区域高度大于后方区域高度,中央内存风道的前方区域的高度大于后方区域的高度,右侧内存风道的前方区域的高度大于后方区域的高度。本实用新型的有益效果为:抬高前方区域的高度,便于冷风在内存上方流过,下方冷风对内存进行散热后冷风温度升高变成热风,这时热风与内存上方流过的冷风混合,这样就可以平衡前后方区域的内存温度。

技术领域

本实用新型涉及服务器技术领域,尤其涉及一种关于4路架构导风罩的架构。

背景技术

随着云计算、数据处理等新型技术的发展,对微型计算机的要求不断提高,处理器的运算速度与运算量也越来越大,导致内存、硬盘等各个元器件的温度也不断飙升,电子器件的散热成为目前一个相当灼手的问题,而且现在社会对功耗的要求也越来越高,节能是目前的一个主流趋势,如何能有效的解决各个电子器件的温度过高问题,不应仅仅是简单的增加风量,应该合理的利用机型的特点,更加充分的利用有限的风量满足各个器件的性能。现在服务器对硬盘、CPU的需求越来越高,如何在有限的空间放置更多的硬盘满足存储机型的需要,不但是硬件、机构部门所要面临的问题,散热问题的制约已经成为很多设计的瓶颈。

现有四路服务器前后内存区域导风罩高度一致,这样就导致风流经过前方内存的预热而温度升高,从而使得后方内存温度比前方内存温度高出很多,导致前后方内存温差较大,这种温度分布不均匀在服务器风扇或者服务器工作环境出现异常时很容易使得后方的内存超温,从而影响服务器的工作性能。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种通过抬高前方内存区域的导风罩高度,使得冷风有一部分在内存上方区域通过,使得冷风和热风在后方内存的入风处混合,从而降低后方内存的入风温度的关于4路架构导风罩的架构。

本实用新型是通过如下措施实现的:

一种关于路架构导风罩的架构,包括导风罩本体,所述导风罩本体上设置有风道,所述风道包括前方区域以及后方区域,所述风道包括左侧内存风道、左侧中央处理器风道、中央内存风道、右侧中央处理器风道以及右侧内存风道,所述左侧中央处理器风道的前方区域与后方区域在同一水平面内,所述右侧中央处理器风道的前方区域与后方区域在同一水平面内,所述左侧内存风道的前方区域相对于主板的高度大于后方区域相对于主板的高度,所述中央内存风道的前方区域相对于主板的高度大于后方区域相对于主板的高度,所述右侧内存风道的前方区域相对于主板的高度大于后方区域相对于主板的高度。

优选的,所述左侧内存风道的前方区域相对于主板的高度等于所述中央内存风道的前方区域相对于主板的高度。

优选的,所述左侧内存风道的后方区域相对于主板的高度等于所述中央内存风道的后方区域相对于主板的高度。

优选的,所述左侧内存风道的前方区域相对于主板的高度等于所述右侧内存风道的前方区域相对于主板的高度。

优选的,所述左侧内存风道的后方区域相对于主板的高度等于所述右侧内存风道的后方区域相对于主板的高度。

优选的,所述前方区域相对于主板的高度与所述后方区域相对于主板的高度之差为10mm。

本实用新型的有益效果为:

1、左侧中央处理器风道的前方区域与后方区域在同一水平面内,右侧中央处理器风道的前方区域与后方区域在同一水平面内,便于对左侧中央处理器以及右侧中央处理器的散热器进行调节;

2、抬高前方区域的高度,便于冷风在内存上方流过,下方冷风对内存进行散热后冷风温度升高变成热风,这时热风与内存上方流过的冷风混合,从而降低了后方区域内存的入风温度,这样就可以平衡前后方的内存温度。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于苏州浪潮智能科技有限公司,未经苏州浪潮智能科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201921641352.X/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top