[实用新型]一种管式PECVD炉管防尘结构有效
申请号: | 201921646763.8 | 申请日: | 2019-09-29 |
公开(公告)号: | CN211227334U | 公开(公告)日: | 2020-08-11 |
发明(设计)人: | 黄金;李高非;王继磊;白焱辉;张娟;杨骥;高勇;贾慧君 | 申请(专利权)人: | 晋能光伏技术有限责任公司 |
主分类号: | C23C16/50 | 分类号: | C23C16/50;H01L31/18 |
代理公司: | 镇江京科专利商标代理有限公司 32107 | 代理人: | 朱坤保 |
地址: | 030600 山西省晋中市榆*** | 国省代码: | 山西;14 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 pecvd 炉管 防尘 结构 | ||
本实用新型公开了一种管式PECVD炉管防尘结构。它包括炉管本体内平行设置的一对沿炉管本体轴向方向布置的支撑板,两块支撑板固定设置在炉管本体中上部的两侧内壁上且两块支撑板沿炉管本体中心垂线对称布置,炉管本体内还能够铺设位于两块支撑板的上方的防护板,两块支撑板之间设置有间距并能够使炉管本体内的浆料通过该间距直接与防护板接触,炉管本体内放置有位于防护板下方的石墨舟。其优点是:避免了在非晶硅沉积过程中产生的粉尘、反应沉积物掉落在硅片表面,从而保证了硅片表面的洁净度,解决了正常作业过程中的粉尘及反应沉积物堆积在舟中硅片表面的问题,从而减少了炉管的清理周期,还大大提高了制程过程良率和最终成品电池片的转换效率。
技术领域
本实用新型涉及一种用于硅异质结太阳能电池镀膜的PECVD设备的部件结构,具体地说是一种管式PECVD炉管防尘结构。
背景技术
对于HJT电池而言,非晶硅起到钝化、形成p-n结的关键作用,对于HJT电池的转换效率起到决定性作用,因此,制备性能优异的非晶硅薄膜是获得高效HJT电池的关键技术;目前HJT电池非晶硅沉积主要有板式PECVD,Cat-CVD两种设备,现有技术中,对于管式PECVD来说,由于结构设计存在缺陷,在非晶硅沉积过程中产生的粉尘、反应沉积物会掉落在硅片的表面,由此影响了硅片表面的洁净度,使得炉管的清理周期也很长,还会降低制程过程良率和最终成品电池片的转换效率。
发明内容
本实用新型要解决的技术问题是提供一种能够提高硅片表面的洁净度、缩短炉管的清理周期并提高良品率和转换效率的管式PECVD炉管防尘结构。
为了解决上述技术问题,本实用新型的用于管式PECVD炉管防尘结构,包括炉管本体内平行设置的一对沿炉管本体轴向方向布置的支撑板,两块支撑板固定设置在炉管本体中上部的两侧内壁上且两块所述支撑板沿炉管本体中心垂线对称布置,炉管本体内还能够铺设位于两块支撑板的上方的防护板,两块支撑板之间设置有间距并能够使炉管本体内的浆料通过该间距直接与防护板接触,炉管本体内放置有位于防护板下方的石墨舟。
所述防护板的长度大于石墨舟的长度。
所述炉管本体、支撑板以及防护板的材质均为石英。
所述防护板的形状为方形结构或左右两侧边缘为圆弧状结构的平板。
所述两块支撑板上均镶嵌有便于防护板移动的石英滚珠。
所述防护板通过浆料输送至炉管本体内,所述防护板进入到炉管本体内并达到支撑板上方后控制浆料下降,从而使防护板降至支撑板上。
一种适用于管式PECVD炉管防尘结构的镀膜设备,包括沉积氮化硅薄膜和沉积非晶硅薄膜的设备。
本实用新型的优点在于:
由于炉管本体内设置的一对支撑板以及炉管本体内铺设位于两块支撑板的上方的防护板,尤其是支撑板与防护板之间巧妙地位置布局,利用防护板进行防护,避免了在非晶硅沉积过程中产生的粉尘、反应沉积物掉落在硅片表面,从而保证了硅片表面的洁净度,解决了正常作业过程中的粉尘及反应沉积物堆积在舟中硅片表面的问题,从而减少了炉管的清理周期,同时还大大提高了制程过程良率和最终成品电池片的转换效率。
附图说明
图1为本实用新型管式PECVD炉管防尘结构的示意图;
图2为本实用新型中其中一种防护板的结构示意图;
图3为本实用新型中另外一种防护板的结构示意图。
具体实施方式
下面结合附图和具体实施方式,对本实用新型的管式PECVD炉管防尘结构作进一步详细说明。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的