[实用新型]一种超大尺寸单晶硅片的清洗系统

说明书

本实用新型提供一种超大尺寸单晶硅片的清洗系统，包括预清洗部和慢提拉部，还包括第一药液清洗部、第一溢流清洗部、第二药液清洗部、第三药液清洗部和第二溢流清洗部，预清洗部、第一药液清洗部、第一溢流清洗部、第二药液清洗部、第三药液清洗部、第二溢流清洗部与慢提拉部依次设置，并通过移动抓取装置连通，对硅片依次进行清洗；慢提拉部以一定倾斜角度倾斜设置，以使得硅片表面水分拉干；第一药液清洗部中的药液为清洗剂溶液；第二药液清洗部中的药液为高浓度清洗药液溶液；第三药液清洗部中的药液为低浓度清洗药液溶液。本实用新型的有益效果是对硅片进行三次药液清洗，硅片表面洁净度高，提高硅片表面洁净度，提升后续电池片的转化效率。

技术领域

本实用新型属于光伏技术领域，尤其是涉及一种超大尺寸单晶硅片的清洗系统。

背景技术

目前超大尺寸硅片加工已成为光伏后续发展趋势。但硅片尺寸变大以后，特别是直径大于270mm硅片的清洗，按照目前清洗方式，脏片比例上升。虽然，采用延长清洗的时间、加大药液(清洗剂、化学品)的用量、增加溢流量可以达到清洗目的，但成本会上升。

实用新型内容

鉴于上述问题，本实用新型要解决的问题是提供一种超大尺寸单晶硅片的清洗系统，尤其适合超大尺寸单晶硅片的清洗，对硅片依次进行第一药液清洗、第二药液清洗和第三药液清洗，硅片表面洁净度高，硅片表面金属离子残留较少，提高后续电池片的转化效率。

为解决上述技术问题，本实用新型采用的技术方案是：一种超大尺寸单晶硅片的清洗系统，包括预清洗部和慢提拉部，还包括第一药液清洗部、第一溢流清洗部、第二药液清洗部、第三药液清洗部和第二溢流清洗部，预清洗部、第一药液清洗部、第一溢流清洗部、第二药液清洗部、第三药液清洗部、第二溢流清洗部与慢提拉部依次设置，并通过移动抓取装置连通，对硅片依次进行清洗；以及，

慢提拉部以一定倾斜角度倾斜设置，以使得硅片表面水分拉干；

其中，第一药液清洗部中的药液为清洗剂溶液；

第二药液清洗部中的药液为高浓度清洗药液溶液；

第三药液清洗部中的药液为低浓度清洗药液溶液。

进一步的，第一药液清洗部包括第一超声药液清洗部和第二超声药液清洗部，第一超声药液清洗部与第二超声药液清洗部依次设置，对硅片进行超声药液清洗；其中，

第一超声药液清洗部与第二超声药液清洗部均设有清洗剂溶液。

进一步的，清洗剂溶液为3％-5％的清洗剂。

进一步的，高浓度清洗药液溶液为双氧水和氢氧化钾溶液，其中，

双氧水的质量分数为20％-40％，氢氧化钾的质量分数为30％-50％；

双氧水的浓度为4.5vol％-5.5vol％，氢氧化钾的浓度为1.0vol％-1.5vol％。

进一步的，低浓度清洗药液溶液为双氧水和氢氧化钾溶液，其中，

双氧水的质量分数为20％-40％，氢氧化钾的质量分数为30％-50％；

双氧水的浓度为1.5vol％-1.8vol％，氢氧化钾的浓度为0.3vol％-0.5vol％。

进一步的，第二药液清洗部与第三药液清洗部均设有鼓泡清洗部。

进一步的，第二溢流清洗部包括第一超声溢流部、第二超声溢流部和第三超声溢流部，第一超声溢流部、第二超声溢流部与第三超声溢流部依次设置，对硅片依次进行清洗；

其中，第一超声溢流部、第二超声溢流部与第三超声溢流部均设有纯水。

进一步的，倾斜角度为5°-15°。