[实用新型]一种用于晶圆清洗的槽体整体结构

权利要求书

1.一种用于晶圆清洗的槽体整体结构，其特征在于，包括洗涤槽(1)，所述洗涤槽(1)的内侧设置有外槽(3)，所述外槽(3)的内侧设置有内槽(4)，所述内槽(4)内设置有用于装载晶圆的晶圆盒(14)，所述晶圆盒(14)的上、下端均设有开口，所述内槽(4)的内侧底部安装有支撑架(17)，所述晶圆盒(14)固定安装于支撑架(17)上，所述内槽(4)的下方设置有超声波槽(5)，所述外槽(3)上方槽口处设置有两个上盖板(2)，所述洗涤槽(1)的一侧槽壁处安装有进液管(11)、第一排液管(12)和第二排液管(13)，所述进液管(11)由外向内依次贯穿外槽(3)和内槽(4)，所述第一排液管(12)与内槽(4)连通，所述第二排液管(13)与外槽(3)连通。

2.根据权利要求1所述的一种用于晶圆清洗的槽体整体结构，其特征在于，所述洗涤槽(1)的两个对称内壁上均固定安装有两个支撑座(9)，所述支撑座(9)靠近外槽(3)一侧开设有支撑圆孔，所述外槽(3)的两个对称外壁上均固定连接有两个固定杆(31)，所述外槽(3)两侧外壁上的固定杆(31)分别安装于洗涤槽(1)内壁上支撑座(9)的支撑圆孔内。

3.根据权利要求1所述的一种用于晶圆清洗的槽体整体结构，其特征在于，所述洗涤槽(1)的两个对称内壁上均固定安装有两个托板(10)，所述超声波槽(5)设置于洗涤槽(1)内壁处的四个托板(10)上，四个所述托板(10)的上表面均开设有相应的凹槽，所述超声波槽(5)底部的四个拐角分别设置于四个托板(10)的凹槽内。

4.根据权利要求1所述的一种用于晶圆清洗的槽体整体结构，其特征在于，所述进液管(11)包括主管(111)和两个分管(112)，所述主管(111)与洗涤槽(1)、外槽(3)贯穿连接，所述主管(111)的内端延伸至外槽(3)内部并与两个分管(112)连接，两个所述分管(112)的一端贯穿内槽(4)槽壁并延伸至内槽(4)中，两个所述分管(112)上均开设有若干个通孔(1121)，两个所述分管(112)分别位于支撑架(17)的两侧。

5.根据权利要求1所述的一种用于晶圆清洗的槽体整体结构，其特征在于，所述外槽(3)包括深部(33)和浅部(34)，所述浅部(34)的底面开设有开槽，开槽贯通深部(33)的一侧侧壁，所述浅部(34)的底面开槽的槽口位置处固定安装有密封板(32)，所述内槽(4)的底部贯穿开槽并延伸至超声波槽(5)内，所述密封板(32)与内槽(4)的外壁紧密接触，所述外槽(3)通过密封板(32)与内槽(4)外壁密封形成开口向上的槽体。

6.根据权利要求1所述的一种用于晶圆清洗的槽体整体结构，其特征在于，所述上盖板(2)的两端均固定安装有转臂(7)，所述转臂(7)的一侧连接有连接轴，其中一个所述转臂(7)的连接轴与立板(18)转动连接，所述立板(18)固定安装于洗涤槽(1)的一侧内壁处，所述洗涤槽(1)的一侧外壁上设置有两个旋转气缸(6)，所述旋转气缸(6)上固定安装有三个定位管(19)，三个所述定位管(19)等弧度环形分布于旋转气缸(6)旋转头的周侧，所述定位管(19)的一端与洗涤槽(1)的外壁固定连接，所述旋转气缸(6)的旋转头与另一个转臂(7)上的连接轴固定连接。

7.根据权利要求1所述的一种用于晶圆清洗的槽体整体结构，其特征在于，所述超声波槽(5)的一侧外壁上固定安装有固定板(15)，所述固定板(15)的上端折弯并延伸至超声波槽(5)槽口上方，所述固定板(15)的顶部安装有浮球液位计(16)。

8.根据权利要求2所述的一种用于晶圆清洗的槽体整体结构，其特征在于，所述支撑座(9)包括定位块(91)、焊接块(92)、支撑块(93)和顶盖(94)，所述支撑块(93)设置于定位块(91)的上表面，所述顶盖(94)设置于支撑块(93)的上表面中部，所述焊接块(92)与定位块(91)之间通过两个第一螺栓(95)固定连接，所述定位块(91)和支撑块(93)之间通过两个第二螺栓(96)固定连接，所述支撑块(93)和顶盖(94)之间通过两个螺钉(97)固定连接，所述定位块(91)包括纵板(911)和横板(912)，所述横板(912)固定连接于纵板(911)的顶部，且所述横板(912)与纵板(911)相互垂直，所述焊接块(92)的上表面与横板(912)的底面紧密接触，所述支撑块(93)上表面开设有一个下半圆槽(931)，所述下半圆槽(931)位于该上表面的一侧边缘中部，所述支撑块(93)上表面还开设有两个螺栓孔(932)，所述螺栓孔(932)为条形孔，所述顶盖(94)上开设有一个上半圆槽(941)，所述上半圆槽(941)位于顶盖(94)底面的一侧边缘中部，所述上半圆槽(941)的半径与下半圆槽(931)的半径相等，所述上半圆槽(941)与下半圆槽(931)上、下对应并围合形成圆形槽口。