[实用新型]一种石英晶片清洗机水槽

说明书

本实用新型提供一种石英晶片清洗机水槽，具体涉及到石英晶片清洗机技术领域。本实用新型清洗机水槽，清洗机水槽由清洗槽和漂洗槽组成，清洗槽与漂洗槽之间设有隔板，隔板的边缘与清洗机水槽的侧壁和底面相接；隔板上设有通孔；清洗槽的底部和漂洗槽的底部分别设有若干清洗进水孔和若干漂洗进水孔；清洗进水孔和漂洗进水孔的上端分别设有高压导向管，高压导向管的底端与清洗机水槽底部相接，高压导向管底端圆的半径大于上端圆的半径；清洗槽的侧壁上部设有出水孔。本实用新型提出的一种石英晶片清洗机水槽，能够对附着在一起的石英晶片起到良好的清洗效果，从而提高石英晶片的生产质量。

技术领域

本实用新型属于石英晶片清洗机技术领域，具体涉及一种石英晶片清洗机水槽。

背景技术

随着国家经济的迅速发展，石英晶片广泛应用于电子元器件技术领域，石英晶片在生产加工的过程中，石英晶片表面会受到污染，因此需要对石英晶片表面进行清洁处理，清洁处理分为腐蚀液清洗和水清洗，腐蚀液清洗后使石英晶片表面具有附着性，两片晶片容易粘附在一起，致使水清洗过程普遍存在清洗不充分现象。

一种腐蚀液清洗机(授权号CN201521078644.9)，公开了一种腐蚀液清洗机，该装置包括机架、清洗槽和控制箱。该装置提供一种结构简单、清洗效果好、清洗效率高，同时能够有效保证产品质量的腐蚀液清洗机，但是该装置通过清洗架的上下往复运动实现石英晶片的清洗效果不佳，无法使附着在一起的石英晶片分离开，导致附着面得不到有效的清洗。

针对以上情况，现需求一种石英晶片清洗机水槽，能够对附着在一起的石英晶片起到良好的清洗效果，从而提高石英晶片的生产质量。

实用新型内容

本实用新型的目的是提供一种石英晶片清洗机水槽，能够对附着在一起的石英晶片起到良好的清洗效果，从而提高石英晶片的生产质量。

本实用新型提供了如下的技术方案：

一种石英晶片清洗机水槽，包括清洗机水槽，所述清洗机水槽由清洗槽和漂洗槽组成，所述清洗槽与漂洗槽之间设有隔板，所述隔板的边缘与所述清洗机水槽的侧壁和底面相接；所述隔板上设有通孔；所述清洗槽的底部和所述漂洗槽的底部分别设有若干清洗进水孔和若干漂洗进水孔；所述清洗进水孔和所述漂洗进水孔的上端分别设有高压导向管，所述高压导向管的底端与所述清洗机水槽底部相接，所述高压导向管底端圆的半径大于上端圆的半径；所述清洗槽的侧壁上部设有出水孔。

优选的，所述高压导向管上端圆的侧壁与下端圆的侧壁设于同一竖直面，所述清洗槽内的所述高压导向管的上端方向呈顺时针排列，所述漂洗槽内的所述高压导向管的上端方向呈逆时针排列。

优选的，所述高压导向管的下端外侧壁设有螺纹。

优选的，所述清洗进水孔和所述漂洗进水孔的内侧壁设有与所述高压导向管下端外侧壁相匹配的螺纹，所述高压导向管的下端外侧壁与所述清洗进水孔的内侧壁和所述漂洗进水孔的内侧壁相接。

优选的，所述清洗槽内设有导向管，所述导向管的端部与所述通孔相接，所述导向管与所述隔板呈60度倾斜角。

优选的，所述清洗机水槽的内侧壁设有与所述隔板边缘相匹配的凹槽，所述凹槽的底部与所述隔板相接。

本实用新型的有益的效果：

本实用新型的清洗机水槽由清洗槽和漂洗槽组成，清洗槽与漂洗槽之间设有隔板，隔板上设有通孔，清洗槽的底部和漂洗槽的底部分别设有若干清洗进水孔和若干漂洗进水孔；清洗进水孔和漂洗进水孔的上端设有高压导向管，高压导向管底端圆的半径大于上端圆的半径；清洗槽的侧壁上部设有出水孔；高压导向管可使石英晶片一直在水中翻滚，使附着的石英晶片分离开，清洗效果更佳，因水从清洗槽出水孔流出，漂洗槽内的水较为清洁，石英晶片清洗完后放入漂洗槽内漂洗，使表面杂质完全去除，提高了石英晶片的生产质量。

附图说明