[实用新型]一种石英晶片的圆边清洗装置

权利要求书

1.一种石英晶片的圆边清洗装置，包括两个对称设置的清洁机构以及清洁缸，其特征在于，所述清洁机构包括第一气缸以及设于所述第一气缸上方的支撑台，所述第一气缸的第一活塞杆连接所述支撑台的下表面，所述支撑台的上表面设有第二气缸，所述第二气缸的第二活塞杆通过连接件连接电机的一端，所述电机的另一端设有转轴，所述电机驱动所述转轴顺指针方向进行自转，所述转轴的一端连接夹板的一端，所述夹板的另一端通过连接板连接海绵板，两个所述清洁机构的两个海绵板之间夹持有石英晶片，清洗缸设于所述石英晶片的下方，所述清洗缸可容纳所述石英晶片的转动。

2.根据权利要求1所述的一种石英晶片的圆边清洗装置，其特征在于，所述第二气缸、所述第二活塞杆、所述电机、所述转轴、所述夹板、所述连接板、所述海绵板和所述石英晶片在水平方向的中轴线均在同一条直线上。

3.根据权利要求2所述的一种石英晶片的圆边清洗装置，其特征在于，所述第一气缸的两端外侧壁均设有固定机构，所述固定机构包括第一横杆、第二横杆和竖杆，所述第一横杆的一端连接所述第一气缸的外侧壁，另一端连接所述竖杆的顶部侧壁，所述竖杆的底部侧壁连接所述第二横杆的一端，所述第二横杆在竖直方向设有螺纹孔，螺栓通过所述螺纹孔与工作台面进行螺纹连接。

4.根据权利要求3所述的一种石英晶片的圆边清洗装置，其特征在于，所述清洗缸为空心长方体状，所述清洗缸的两端侧壁的顶部向侧壁的底部凹陷设有凹槽，所述凹槽可容纳所述转轴上下移动。

5.根据权利要求4所述的一种石英晶片的圆边清洗装置，其特征在于，所述清洗缸内设有清洗液，所述清洗液的液面高度小于所述凹槽的底部所处的高度。

6.根据权利要求5所述的一种石英晶片的圆边清洗装置，其特征在于，所述支撑台的外侧壁设有电源，所述第一气缸、所述第二气缸和所述电机均与所述电源电性连接。