[实用新型]一种石英晶片的圆边清洗装置有效

专利信息
申请号: 201921707654.2 申请日: 2019-10-12
公开(公告)号: CN210816624U 公开(公告)日: 2020-06-23
发明(设计)人: 夏良军 申请(专利权)人: 菲特晶(南京)电子有限公司
主分类号: B08B11/00 分类号: B08B11/00;B08B11/02;B08B3/10;B08B13/00
代理公司: 南京常青藤知识产权代理有限公司 32286 代理人: 金迪
地址: 210000 江苏省南*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 石英 晶片 清洗 装置
【说明书】:

实用新型提供一种石英晶片的圆边清洗装置,涉及石英晶片生产加工设备领域,包括两个对称设置的清洁机构和清洁缸,清洁机构包括第一气缸以及设于第一气缸上方的支撑台,第一气缸的第一活塞杆连接支撑台的下表面,支撑台的上表面设有第二气缸,第二气缸的第二活塞杆通过连接件连接电机的一端,电机的另一端设有转轴,电机驱动转轴顺指针方向进行自转,转轴的一端连接夹板的一端,夹板的另一端通过连接板连接海绵板,两个清洁机构的两个海绵板之间夹持有石英晶片,清洗缸设于石英晶片的下方,清洗缸可容纳石英晶片的转动。本实用新型结构稳定,清洗部位精确,使用方便,通用性强。

技术领域

本实用新型属于石英晶片生产加工设备术领域,具体涉及一种石英晶片的圆边清洗装置。

背景技术

石英晶体的化学成分为SiO2,晶体属三方晶系的氧化物矿物,即低温石英,是石英族矿物中分布最广的一个矿物种。广义的石英还包括高温石英。在石英晶体制作成石英晶片的过程中,圆边处的清洁程度较差,因此通常使用清洗装置对其进行清洗。现有的石英晶片的圆边清洗装置在使用过程中易出现移位,使得清洗部位不稳定,且很难适用于不同规格的石英晶片,浪费成本。

因此急需提供一种结构稳定,清洗部位精确,使用方便,通用性强的石英晶片的圆边清洗装置。

实用新型内容

本实用新型的目的是针对现有石英晶片的圆边清洗装置的不足,提供一种石英晶片的圆边清洗装置。

本实用新型提供了如下的技术方案:

一种石英晶片的圆边清洗装置,包括两个对称设置的清洁机构以及清洁缸,所述清洁机构包括第一气缸以及设于所述第一气缸上方的支撑台,所述第一气缸的第一活塞杆连接所述支撑台的下表面,所述支撑台的上表面设有第二气缸,所述第二气缸的第二活塞杆通过连接件连接电机的一端,所述电机的另一端设有转轴,所述电机驱动所述转轴顺指针方向进行自转,所述转轴的一端连接夹板的一端,所述夹板的另一端通过连接板连接海绵板,两个所述清洁机构的两个海绵板之间夹持有石英晶片,清洗缸设于所述石英晶片的下方,所述清洗缸可容纳所述石英晶片的转动。

优选的,所述第二气缸、所述第二活塞杆、所述电机、所述转轴、所述夹板、所述连接板、所述海绵板和所述石英晶片在水平方向的中轴线均在同一条直线上。

优选的,所述第一气缸的两端外侧壁均设有固定机构,所述固定机构包括第一横杆、第二横杆和竖杆,所述第一横杆的一端连接所述第一气缸的外侧壁,另一端连接所述竖杆的顶部侧壁,所述竖杆的底部侧壁连接所述第二横杆的一端,所述第二横杆在竖直方向设有螺纹孔,螺栓通过所述螺纹孔与工作台面进行螺纹连接。

优选的,所述清洗缸为空心长方体状,所述清洗缸的两端侧壁的顶部向侧壁的底部凹陷设有凹槽,所述凹槽可容纳所述转轴上下移动。

优选的,所述清洗缸内设有清洗液,所述清洗液的液面高度小于所述凹槽的底部所处的高度。

优选的,所述支撑台的外侧壁设有电源,所述第一气缸、所述第二气缸和所述电机均与所述电源电性连接。

本实用新型的有益效果是:第一气缸和第二气缸连接的固定机构通过螺栓与工作台进行固定,结构稳定,清洗部位精确;石英晶片的大小不限制,均可通过夹板夹持进行清洗,通用性强;通过第一气缸、第二气缸和电机的驱动即可对石英晶片的圆边进行清洗,使用方便。

附图说明

附图用来提供对本实用新型的进一步理解,并且构成说明书的一部分,与本实用新型的实施例一起用于解释本实用新型,并不构成对本实用新型的限制。在附图中:

图1是本实用新型的结构示意图;

图2是本实用新型的清洗缸的结构示意图。

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