[实用新型]一种用于真空镀铝膜工艺的工作平台

权利要求书

1.一种用于真空镀铝膜工艺的工作平台，包括真空舱(1)，其特征在于：所述真空舱(1)中设置有控制装置(2)，所述控制装置(2)包括扩散箱(3)、铰接座(4)、升降座(5)和压力装置(6)，所述扩散箱(3)形状为一端开口的箱壳体结构，扩散箱(3)的上端连接有铰接座(4)，所述铰接座(4)的两端各设置有一个升降座(5)，所述扩散箱(3)上和铰接座(4)相邻的两个侧壁上各设置有一个压力装置(6)，且两个压力装置(6)对称分布，所述压力装置(6)包括控制体(7)、弹簧片(8)、控制块(9)、蜗杆(10)、控制板(11)和辅助轮(12)，所述控制体(7)的一端固定连接有弹簧片(8),控制体(7)的另一端延伸到控制块(9)中，控制块(9)固定在扩散箱(3)外壁上，且控制块(9)中设置有蜗杆(10),控制体(7)和控制块(9)传动连接，弹簧片(8)上远离控制体(7)的一端固定连接有控制板(11)，所述控制板(11)上远离弹簧片(8)的一端铰接有辅助轮(12)。

2.根据权利要求1所述的一种用于真空镀铝膜工艺的工作平台，其特征在于：所述铰接座(4)包括铰接柱(13)和中轴(14)，所述铰接柱(13)的下端和扩散箱(3)固定连接，铰接柱(13)的中部开设有通孔，铰接柱(13)的通孔中活动套接中轴(14),中轴(14)的端部连接有升降座(5)。

3.根据权利要求2所述的一种用于真空镀铝膜工艺的工作平台，其特征在于：所述升降座(5)包括立柱(15)、升降柱(16)和弹簧(17)，所述立柱(15)形状为四棱柱且柱体侧壁上开设有长方体状滑槽，立柱(15)的滑槽中设置有升降柱(16)和弹簧(17)，且弹簧(17)的下端接触有升降柱(16),升降柱(16)的一端和中轴(14)固定连接，立柱(15)的上端固定在真空舱(1)的内腔顶部。

4.根据权利要求3所述的一种用于真空镀铝膜工艺的工作平台，其特征在于：所述升降柱(16)的外壁上固定连接有凸出滑块，且升降柱(16)的凸出滑块一端延伸到，立柱(15)滑槽内壁上开设的导向滑槽中。

5.根据权利要求1所述的一种用于真空镀铝膜工艺的工作平台，其特征在于：所述控制体(7)形状为圆柱一端一体连接长方体，且控制体(7)的柱体外壁上分布有若干均匀分布的三棱柱状凸出齿，控制体(7)契合设置在控制块(9)上开设的凹槽中，控制体(7)的凸出齿和蜗杆(10)啮合连接。

6.根据权利要求1所述的一种用于真空镀铝膜工艺的工作平台，其特征在于：所述控制板(11)为L型板，且板体一端端部开设有凹槽，控制板(11)的凹槽中设置有辅助轮(12),辅助轮(12)形状为圆柱中部贯穿轴杆，且辅助轮(12)上轴杆端部和控制板(11)上开设的通孔活动套接。