[实用新型]一种用于真空镀铝膜工艺的工作平台有效
申请号: | 201921745074.2 | 申请日: | 2019-10-17 |
公开(公告)号: | CN211005581U | 公开(公告)日: | 2020-07-14 |
发明(设计)人: | 曹劲松 | 申请(专利权)人: | 江苏鹏翔包装材料有限公司 |
主分类号: | C23C14/24 | 分类号: | C23C14/24 |
代理公司: | 南京常青藤知识产权代理有限公司 32286 | 代理人: | 仲晖 |
地址: | 223700 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 用于 真空 镀铝 工艺 工作 平台 | ||
本实用新型涉及铝膜工艺技术领域,具体为一种用于真空镀铝膜工艺的工作平台,包括真空舱,真空舱中设置有控制装置,控制装置包括扩散箱、铰接座、升降座和压力装置,扩散箱形状为一端开口的箱壳体结构,扩散箱的上端连接有铰接座,铰接座的两端各设置有一个升降座,扩散箱上和铰接座相邻的两个侧壁上各设置有一个压力装置,且两个压力装置对称分布,压力装置包括控制体、弹簧片、控制块、蜗杆、控制板和辅助轮,本实用新型构造设计实现了铝气体高效附着到待加工膜上,且避免了铝气体的浪费,提高镀铝膜的工作质量,进而提高产品合格率,很具有实用性。
技术领域
本实用新型涉及铝膜工艺技术领域,具体为一种用于真空镀铝膜工艺的工作平台。
背景技术
现有技术中的真空镀铝膜工艺机器工作时,具体为将待加工的卷膜放置在机器真空箱中的转棍上,机器控制两个转棍转动,膜从一个转棍上脱离,在另一个转棍上缠绕,通过对铝进行处理,产生气体,气体附着到移动中的模体上,这样由于铝气体的自由扩散,不能充分的进行附着工作,造成一定的铝气体浪费,同时降低镀膜的质量,为此我们提供了一种用于真空镀铝膜工艺的工作平台。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种用于真空镀铝膜工艺的工作平台,以解决上述背景技术中提出的问题。
为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种用于真空镀铝膜工艺的工作平台,包括真空舱,所述真空舱中设置有控制装置,所述控制装置包括扩散箱、铰接座、升降座和压力装置,所述扩散箱形状为一端开口的箱壳体结构,扩散箱的上端连接有铰接座,所述铰接座的两端各设置有一个升降座,所述扩散箱上和铰接座相邻的两个侧壁上各设置有一个压力装置,且两个压力装置对称分布,所述压力装置包括控制体、弹簧片、控制块、蜗杆、控制板和辅助轮,所述控制体的一端固定连接有弹簧片,控制体的另一端延伸到控制块中,控制块固定在扩散箱外壁上,且控制块中设置有蜗杆,控制体和控制块传动连接,弹簧片上远离控制体的一端固定连接有控制板,所述控制板上远离弹簧片的一端铰接有辅助轮。
优选的,所述铰接座包括铰接柱和中轴,所述铰接柱的下端和扩散箱固定连接,铰接柱的中部开设有通孔,铰接柱的通孔中活动套接中轴,中轴的端部连接有升降座。
优选的,所述升降座包括立柱、升降柱和弹簧,所述立柱形状为四棱柱且柱体侧壁上开设有长方体状滑槽,立柱的滑槽中设置有升降柱和弹簧,且弹簧的下端接触有升降柱,升降柱的一端和中轴固定连接,立柱的上端固定在真空舱的内腔顶部。
优选的,所述升降柱的外壁上固定连接有凸出滑块,且升降柱的凸出滑块一端延伸到,立柱滑槽内壁上开设的导向滑槽中。
优选的,所述控制体形状为圆柱一端一体连接长方体,且控制体的柱体外壁上分布有若干均匀分布的三棱柱状凸出齿,控制体契合设置在控制块上开设的凹槽中,控制体的凸出齿和蜗杆啮合连接。
优选的,所述控制板为L型板,且板体一端端部开设有凹槽,控制板的凹槽中设置有辅助轮,辅助轮形状为圆柱中部贯穿轴杆,且辅助轮上轴杆端部和控制板上开设的通孔活动套接。
与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:
1.本实用新型构造设计实现了铝气体高效附着到待加工膜上,且避免了铝气体的浪费,提高镀铝膜的工作质量,进而提高产品合格率,很具有实用性;
2.本实用新型通过控制装置的设计,实现稳定的机械传动控制,进而提高整个工作平台的工作稳定性。
附图说明
图1为本实用新型结构示意图;
图2为图1中控制体结构示意图;
图3为升降座结构示意图;
图4为控制板结构示意图。
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