[实用新型]一种真空等离子体表面处理设备

权利要求书

1.一种真空等离子体表面处理设备，包括处理箱(1)、传动装置(2)、驱动装置(3)和限位装置(4)，其特征在于：所述处理箱(1)内部的两侧均设有传动装置(2)，两组所述传动装置(2)的驱动方向相反，两组所述传动装置(2)之间设有两组挡板(5)，所述挡板(5)的顶部和底部分别与处理箱(1)内部的顶部和底部固定焊接，两组所述挡板(5)与处理箱(1)之间构成真空腔，所述处理箱(1)顶部安装有真空泵(6)，所述真空泵(6)的侧面安装有与真空腔连通的抽气管，所述处理箱(1)内部的底部靠近真空腔的一侧挖设有驱动槽，真空腔内设有与驱动槽连接的驱动装置(3)，其中一组所述挡板(5)与传动装置(2)之间设有限位板(7)，所述限位板(7)与处理箱(1)内壁固定焊接，所述限位板(7)远离处理箱(1)的一侧的上半部和下半部均开设有两组对称的限位槽，限位槽的两侧均挖设有滑动轨道，两组滑动轨道之间设有置于限位槽内的限位装置(4)，所述处理箱(1)的侧面通过合页转动连接有三组适配的带有把手的箱门(18)，其中一组所述箱门(18)靠近真空腔的一侧嵌有观察窗。

2.根据权利要求1所述的一种真空等离子体表面处理设备，其特征在于：所述传动装置(2)包括传动辊(8)和驱动电机(9)，所述传动辊(8)的中心固定焊接有转动轴，转动轴一端的外周与处理箱(1)内壁安装的传动轴承座的内圈固定焊接，转动轴的另一端通过联轴器与驱动电机(9)的输出轴连接，所述驱动电机(9)与处理箱(1)侧面开设的传动槽固定焊接。

3.根据权利要求1所述的一种真空等离子体表面处理设备，其特征在于：所述限位装置(4)包括限位座(10)、限位杆(11)和限位辊(12)，所述限位座(10)的两侧均设有与滑动轨道滑动连接的滑块，所述限位座(10)中心钻设的限位孔内螺纹连接有限位杆(11)，所述限位杆(11)的顶端和底端的外周分别与限位阀和限位槽内安装的限位轴承座的内圈固定焊接，所述限位座(10)远离限位孔的一侧固定焊接有两组对称的且置于限位槽内的支撑轴承座，支撑轴承座的内圈与限位辊(12)中心设有的旋转轴的外周固定焊接。

4.根据权利要求1所述的一种真空等离子体表面处理设备，其特征在于：所述驱动装置(3)包括正极板(13)、负极板(14)和等离子电源(15)，所述正极板(13)和负极板(14)均设有多组，所述正极板(13)和负极板(14)均呈矩形阵列分布，所述正极板(13)和负极板(14)之间呈等距离对称分布，所述负极板(14)通过导线与等离子电源(15)连接，所述等离子电源(15)置于处理箱(1)底部挖设的驱动槽内。

5.根据权利要求1所述的一种真空等离子体表面处理设备，其特征在于：两组所述传动装置(2)的驱动电机(9)的转动方向相反，两组所述传动装置(2)的传动辊(8)之间设有置于两组限位装置(4)的限位辊(12)之间的材料(16)，所述材料(16)通过真空腔内部安装的多组传送辊(17)传动输送于驱动装置(3)的正极板(13)和负极板(14)之间。