[实用新型]一种真空等离子体表面处理设备

说明书

本实用新型公开了一种真空等离子体表面处理设备，包括处理箱、传动装置、驱动装置和限位装置，所述处理箱内部的两侧均设有传动装置两组所述传动装置之间设有两组挡板，两组所述挡板与处理箱之间构成真空腔，所述处理箱顶部安装有与真空腔连通的真空泵，所述处理箱内部的底部靠近真空腔的一侧挖设有驱动槽，真空腔内设有与驱动槽连接的驱动装置，其中一组所述挡板与传动装置之间设有限位板，所述限位板远离处理箱的一侧的上半部和下半部均开设有两组对称的限位槽，限位槽的两侧均挖设有滑动轨道，两组滑动轨道之间设有置于限位槽内的限位装置。该真空等离子体表面处理设备，能够适应不同厚度的材料，同时能够提高处理的效率。

技术领域

本实用新型属于等离子体表面处理技术领域，具体涉及一种真空等离子体表面处理设备。

背景技术

等离子体又叫做电浆，是由部分电子被剥夺后的原子及原子团被电离后产生的正负离子组成的离子化气体状物质，尺度大于德拜长度的宏观电中性电离气体，其运动主要受电磁力支配，并表现出显著的集体行为。它广泛存在于宇宙中，常被视为是除去固、液、气外，物质存在的第四态。等离子体是一种很好的导电体，利用经过巧妙设计的磁场可以捕捉、移动和加速等离子体。现阶段，等离子体技术被应用于对卷材表面进行处理，现有的真空等离子体表面处理设备，不能很好地适应不同厚度的材料，同时处理的效率不高。

因此针对这一现状，迫切需要设计和生产一种真空等离子体表面处理设备，以满足实际使用的需要。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种真空等离子体表面处理设备，以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种真空等离子体表面处理设备，包括处理箱、传动装置、驱动装置和限位装置，所述处理箱内部的两侧均设有传动装置，两组所述传动装置的驱动方向相反，两组所述传动装置之间设有两组挡板，所述挡板的顶部和底部分别与处理箱内部的顶部和底部固定焊接，两组所述挡板与处理箱之间构成真空腔，所述处理箱顶部安装有真空泵，所述真空泵的侧面安装有与真空腔连通的抽气管，所述处理箱内部的底部靠近真空腔的一侧挖设有驱动槽，真空腔内设有与驱动槽连接的驱动装置，其中一组所述挡板与传动装置之间设有限位板，所述限位板与处理箱内壁固定焊接，所述限位板远离处理箱的一侧的上半部和下半部均开设有两组对称的限位槽，限位槽的两侧均挖设有滑动轨道，两组滑动轨道之间设有置于限位槽内的限位装置，所述处理箱的侧面通过合页转动连接有三组适配的带有把手的箱门，其中一组所述箱门靠近真空腔的一侧嵌有观察窗。

优选的，所述传动装置包括传动辊和驱动电机，所述传动辊的中心固定焊接有转动轴，转动轴一端的外周与处理箱内壁安装的传动轴承座的内圈固定焊接，转动轴的另一端通过联轴器与驱动电机的输出轴连接，所述驱动电机与处理箱侧面开设的传动槽固定焊接。

优选的，所述限位装置包括限位座、限位杆和限位辊，所述限位座的两侧均设有与滑动轨道滑动连接的滑块，所述限位座中心钻设的限位孔内螺纹连接有限位杆，所述限位杆的顶端和底端的外周分别与限位阀和限位槽内安装的限位轴承座的内圈固定焊接，所述限位座远离限位孔的一侧固定焊接有两组对称的且置于限位槽内的支撑轴承座，支撑轴承座的内圈与限位辊中心设有的旋转轴的外周固定焊接。

优选的，所述驱动装置包括正极板、负极板和等离子电源，所述正极板和负极板均设有多组，所述正极板和负极板均呈矩形阵列分布，所述正极板和负极板之间呈等距离对称分布，所述负极板通过导线与等离子电源连接，所述等离子电源置于处理箱底部挖设的驱动槽内。

优选的，两组所述传动装置的驱动电机的转动方向相反，两组所述传动装置的传动辊之间设有置于两组限位装置的限位辊之间的材料，所述材料通过真空腔内部安装的多组传送辊传动输送于驱动装置的正极板和负极板之间。