[实用新型]一种磁控溅射真空镀膜机工艺气体布气装置

说明书

本实用新型公开了一种磁控溅射真空镀膜机工艺气体布气装置，包括真空室体、阴极布气装置和真空室内环境布气装置，所述阴极布气装置包括护罩住阴极体及靶材的阴极外罩，阴极外罩和阴极体绝缘，阴极外罩通过供气管道与工艺气体馈入接口连接，在阴极外罩内部设有通气孔，通气孔把引入的工艺气体分成两路或多路汇合在阴极外罩一端的布气环内，在布气环朝向靶面的一侧均匀分布有多个喷气孔，所述真空室内环境布气装置包括沿真空室体内壁周边均布的多个布气管，在布气管上分布有布气孔，每个布气管单独通过供气管道与工艺气体馈入接口连接。本实用新型的布气装置保证了移动阴极在动态工作时工艺气体供给的稳定性、均匀性。

技术领域

本实用新型涉及真空镀膜领域，具体为一种磁控溅射真空镀膜机工艺气体布气装置。

背景技术

对于较大的、形状复杂的、非平面的工件表面镀膜，工件移动、翻转不容易实现，需要较大的回转空间，而且回转力矩较大。由于是曲面形状，采用传统的固定式阴极镀膜设备无法满足此类工件的镀膜厚度均匀性的要求，必须采取一种新的阴极布置方式，即工件固定不动，阴极沿工件表面法向、等距、反复移动扫描来完成工件表面镀膜工作。而移动阴极在较大的真空镀膜室内沿工件表面做移动镀膜时，阴极自身的布气装置提供的工艺气体分布会随着阴极和工件相对移动位置的改变而变化或不稳定，导致工件表面镀膜的均匀性差及膜层质量不合格，甚至使工件报废。

发明内容

本实用新型的目的在于为移动式阴极真空镀膜设备提供一套结构合理，连接可靠的移动阴极布气管道及设备内部环境布气管道组成的工艺气体供气系统，为设备磁控溅射镀膜提供精准控制的、均匀分布的工艺气体气氛。

本实用新型采用的技术方案如下：一种磁控溅射真空镀膜机工艺气体布气装置，包括真空室体、阴极布气装置和真空室内环境布气装置，所述阴极布气装置包括护罩住阴极体及靶材的阴极外罩，阴极外罩和阴极体绝缘，阴极外罩通过供气管道与工艺气体馈入接口连接，在阴极外罩内部设有通气孔，通气孔把引入的工艺气体分成两路或多路汇合在阴极外罩一端的布气环内，在布气环朝向靶面的一侧均匀分布有多个喷气孔，所述真空室内环境布气装置包括沿真空室体内壁周边均布的多个布气管，在布气管上分布有布气孔，每个布气管单独通过供气管道与工艺气体馈入接口连接。

进一步地，在真空室体外的供气管道上设有质量流量计和真空截止阀，质量流量计用于控制工艺气体流量的大小，真空截止阀用于控制工艺气体的通入及断开。

进一步地，所述供气管道为柔性软管。

进一步地，真空室体为一个密封的圆形或方形空间。

本实用新型的有益效果在于：

（1）阴极布气装置可跟随阴极移动而移动，阴极在真空室内部做三维动态移动工作时，阴极布气装置一直跟随靶体移动，阴极和工件相对移动位置的改变引起阴极工艺气体分布的变化不大，在真空室体周边均布的多个布气管，移动阴极动态工作时始终处在一个可控的、接近或相同于阴极自身布气气氛的腔室环境下，从而达到阴极移动到任意位置均能保持稳定的工艺气氛要求，为磁控溅射镀膜提供精准控制的、均匀分布的工艺气体气氛，保证膜层的均匀性及一致性；

（2）结构紧凑，阴极布气管道在阴极外罩内部形成，无外接管道，美观，可靠；

（3）真空室内环境布气进气由质量流量计精准控制调整，工艺气体由多个布气管的喷气孔喷出，达到整个设备真空室内部气氛环境和阴极靶面布气气氛基本相同，所以无论阴极移动到真空室体的任意位置，阴极靶面的气氛在动态工作的情况下都能维持一个稳定的、均匀的气氛，从而保持了产品镀膜的均匀性和膜层质量的一致性。

附图说明

图1是本实用新型的整体结构示意图。

图2是本实用新型的阴极外罩示意图。

具体实施方式