[实用新型]膜层沉积装置

权利要求书

1.一种膜层沉积装置，其特征在于，包括：

承载部，用于承载晶圆；

喷头，设置于所述承载部上方，用于向所述位于所述承载部的表面的所述晶圆喷射反应气体，所述反应气体用于在所述晶圆表面形成膜层；

遮蔽结构，用于遮蔽所述喷头的边缘区域，以降低所述晶圆的边缘区域的所述反应气体浓度。

2.根据权利要求1所述的膜层沉积装置，其特征在于，所述喷头朝向所述承载部的表面为喷射面，所述喷射面上具有多个喷孔；所述遮蔽结构包括：若干个遮蔽件，所述遮蔽件用于封闭若干个所述喷孔；

驱动器，连接所述遮蔽件，用于驱动所述遮蔽件朝向所述喷射面的边缘运动。

3.根据权利要求2所述的膜层沉积装置，其特征在于，所述遮蔽件用于封闭所述喷孔的表面与所述喷射面所在的平面平行；或者，

所述遮蔽件用于封闭所述喷孔的表面相对于所述喷射面所在的平面倾斜一预设角度。

4.根据权利要求2所述的膜层沉积装置，其特征在于，所述遮蔽件的数量为多个，且多个所述遮蔽件环绕所述喷射面的外围分布，且相邻所述遮蔽件的端部能够卡合连接；

所述驱动器连接多个所述遮蔽件，用于驱动多个所述遮蔽件同步朝向所述喷射面运动，使得多个所述遮蔽件相互连接形成遮蔽环。

5.根据权利要求2所述的膜层沉积装置，其特征在于，所述遮蔽件的数量为多个，且多个所述遮蔽件环绕所述喷射面的外围分布；

所述驱动器连接多个所述遮蔽件，用于驱动至少一个所述遮蔽件朝向所述喷射面运动，以封闭所述喷射面上的若干所述喷孔。

6.根据权利要求4所述的膜层沉积装置，其特征在于，多个所述喷孔呈环状排列，形成多个喷射环，且多个所述喷射环沿所述喷射面的中心指向所述喷射面的边缘的方向依次嵌套；

所述遮蔽环至少封闭最外圈的所述喷射环中的所述喷孔。

7.根据权利要求4所述的膜层沉积装置，其特征在于，所述遮蔽件呈圆弧形，且所述遮蔽件的第一端部具有卡口、与所述第一端部相对的第二端部具有凸块，相邻的两个所述遮蔽件通过所述卡口与所述凸块卡合连接。

8.根据权利要求4所述的膜层沉积装置，其特征在于，还包括：

反应腔室，所述承载部位于所述反应腔室内；

环形支撑架，用于支撑所述喷头，所述喷头喷射的所述反应气体经所述环形支撑架中的环形开口进入所述反应腔室；

所述遮蔽件与所述驱动器内嵌于所述环形支撑架中。

9.根据权利要求8所述的膜层沉积装置，其特征在于，所述驱动器为步进式马达，且所述遮蔽件与所述驱动器内嵌于所述环形支撑架的壳体夹层内。

10.根据权利要求2所述的膜层沉积装置，其特征在于，所述遮蔽件的材料为体积电阻率大于或等于1012Ω·m、且相对介电系数小于或等于30的陶瓷材料。