[实用新型]屏蔽环、屏蔽装置及电镀设备有效
申请号: | 201921800754.X | 申请日: | 2019-10-24 |
公开(公告)号: | CN211367779U | 公开(公告)日: | 2020-08-28 |
发明(设计)人: | 史蒂文·贺·汪 | 申请(专利权)人: | 新阳硅密(上海)半导体技术有限公司 |
主分类号: | C25D17/00 | 分类号: | C25D17/00;C25D7/12;C25D21/10 |
代理公司: | 上海弼兴律师事务所 31283 | 代理人: | 王卫彬;何桥云 |
地址: | 201616 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 屏蔽 装置 电镀 设备 | ||
1.一种屏蔽环,用于晶圆电镀,其特征在于,所述屏蔽环包括扰流部,所述扰流部与所述屏蔽环的内环面相连接,所述扰流部用于扰动电镀所述晶圆的电镀液,以使所述晶圆被均匀的电镀。
2.如权利要求1所述的屏蔽环,其特征在于,所述扰流部具有扰流面,所述扰流面向所述内环面的轴线延伸,自所述扰流部与所述内环面的连接处至所述扰流部的末端,所述扰流面在垂直于所述内环面的平面内的投影的面积先大再小、先小再大、大小不变、或变大变小交替进行。
3.如权利要求2所述的屏蔽环,其特征在于,所述扰流部的末端还沿所述内环面的轴线向远离所述屏蔽环的方向延伸。
4.如权利要求2所述的屏蔽环,其特征在于,所述屏蔽环具有一个或多个所述扰流部,当为多个时,多个扰流部各自的形状相同或不同,多个所述扰流部均匀或非均匀的间隔设置在所述内环面上。
5.如权利要求2所述的屏蔽环,其特征在于,所述扰流部的形状为镂空状、多孔状、齿状、扇叶状或桨叶状的一种。
6.如权利要求2所述的屏蔽环,其特征在于,所述屏蔽环还包括连接部,所述连接部设置在所述扰流部之间,以使所述扰流部连接为一整体结构。
7.如权利要求2所述的屏蔽环,其特征在于,所述屏蔽环由绝缘材料制成。
8.如权利要求7所述的屏蔽环,其特征在于,所述绝缘材料为聚丙烯、高密度聚乙烯、聚偏二氟乙烯或聚四氟乙烯中的一种或多种,多种所述绝缘材料之间以塑料焊接的工艺相连接。
9.如权利要求2所述的屏蔽环,其特征在于,所述屏蔽环的外侧面为圆形,所述外侧面的直径为所述晶圆直径的95%-110%;
和/或,所述内环面的直径为所述外侧面的直径的80%-90%。
10.如权利要求9所述的屏蔽环,其特征在于,所述外侧面的直径为327mm;和/或,所述内环面的直径为277mm。
11.如权利要求9所述的屏蔽环,其特征在于,所述屏蔽环的外侧面设有凹槽,所述凹槽的截面为圆弧形;
和/或,所述内环面与所述外侧面之间的厚度均匀;或者所述内环面与所述外侧面之间的厚度沿径向由内向外变薄;
和/或,所述扰流部的长度的范围为13mm-15mm;
和/或,所述扰流部沿所述内环面的径向的长度的范围为10mm-13mm。
12.如权利要求2所述的屏蔽环,其特征在于,所述屏蔽环还包括驱动部,所述驱动部设置在所述屏蔽环的侧面,所述驱动部用于接受所述电镀液的作用,以使所述屏蔽环转动。
13.如权利要求12所述的屏蔽环,其特征在于,所述驱动部沿所述内环面的周向均匀的间隔设置。
14.一种屏蔽装置,用于晶圆电镀,其特征在于,所述屏蔽装置包括如权利要求1-13中任意一项所述的屏蔽环。
15.如权利要求14所述的屏蔽装置,其特征在于,所述屏蔽装置还包括固定部,所述固定部具有通孔,所述屏蔽环可旋转的安装于所述通孔内,所述固定部用于将所述屏蔽环安装至电镀设备内;
和/或,所述屏蔽装置还包括动力部,所述动力部作用于所述屏蔽环,以使所述屏蔽环转动;
和/或,所述屏蔽装置还具有沉槽,所述屏蔽环卡设于所述沉槽内。
16.如权利要求15所述的屏蔽装置,其特征在于,所述屏蔽装置还包括滚珠,所述滚珠设置在所述屏蔽环与所述沉槽之间。
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