[实用新型]一种自动配料的气相沉积装置

权利要求书

1.一种自动配料的气相沉积装置，其特征在于：包括温控机构（1）、反应箱（2）、试剂箱（8）和减压组件（9）；所述反应箱（2）下端面设置有温控机构（1），所述反应箱（2）上端面设置有试剂箱（8），所述试剂箱（8）一侧设置有减压组件（9），所述减压组件（9）固设于反应箱（2）上端面，且所述反应箱（2）内部中空设置有反应腔（5），所述反应腔（5）内部设置有基底物（3）和气化箱（4），所述气化箱（4）上端面开设有气化腔，且所述气化箱（4）上侧设置有调节机构（7），所述调节机构（7）将试剂箱（8）和气化箱（4）彼此相连通。

2.根据权利要求1所述的一种自动配料的气相沉积装置，其特征在于：所述试剂箱（8）内部固定设置有隔板，将所述试剂箱（8）内部分隔成两部分，且对应的试剂箱（8）内部连通设置有试剂入口端。

3.根据权利要求1所述的一种自动配料的气相沉积装置，其特征在于：所述温控机构（1）包括温度传感器（6）和加热设备，所述温度传感器（6）和加热设备信号连接，所述加热设备为具备温控系统的常规加热设备。

4.根据权利要求1所述的一种自动配料的气相沉积装置，其特征在于：所述减压组件（9）包括真空泵和检测表；所述真空泵输出端软件连接有连接管，所述连接管贯穿设置于反应箱（2）上端，且所述连接管上固设有真空阀，所述检测表和反应腔（5）相连通。

5.根据权利要求1所述的一种自动配料的气相沉积装置，其特征在于：所述调节机构（7）包括调节箱（11），所述调节箱（11）内部中空设置有第一腔体，所述第一腔体右端壁内部设置有第二腔体，且所述第一腔体内部滑动设置有第一比例块（16），所述第二腔体内部设置有第二比例块（17），且所述第二腔体内部上侧固定设置有挡销（18），所述调节箱（11）左端壁连接有第一管道（15），所述第一管道（15）一端和第一腔体相连通，另一端和试剂箱（8）内部相连通，且所述第一管道（15）下侧设置有第二管道（12），所述第二管道（12）一端和第一腔体相连通，另一端伸入气化腔内部，且所述调节箱（11）右端壁连接有第三管道（13），所述第三管道（13）一端和第一腔体相连通，另一端和试剂箱（8）内部相连通，且所述第三管道（13）上侧设置有第四管道（14），所述第四管道（14）一端和第一腔体相连通，另一端伸入气化腔内部。

6.根据权利要求5所述的一种自动配料的气相沉积装置，其特征在于：所述第二比例块（17）下端面开设有第一半球槽，且所述第二比例块（17）下端面开设有转动槽，所述转动槽和所述第一半球槽相连通，且所述转动槽内部设置有伸缩机构，所述伸缩机构的下端固定设置于第二腔体的下端壁。

7.根据权利要求6所述的一种自动配料的气相沉积装置，其特征在于：所述伸缩机构包括第一连杆，所述第一连杆转动设置于转动槽内，且所述第一连杆的下端面固定连接有滑动杆，所述滑动杆滑动连接有第二连杆，所述第二连杆的下端转动设置有固定块，所述固定块下端面和第二腔体的下端壁固定连接。

8.根据权利要求5所述的一种自动配料的气相沉积装置，其特征在于：所述第一比例块（16）左端壁开设有第二半球槽，且所述第一比例块（16）的上端面固定设置有弹簧，所述弹簧的上端和第一腔体的上端壁固定连接。

9.根据权利要求5所述的一种自动配料的气相沉积装置，其特征在于：所述挡销（18）中心向下投影的点和所述第二比例块（17）中心向下投影的点在同一水平线上存在一定的间隔。