[实用新型]一种硅处理纯水清洗处理机构

权利要求书

1.一种硅处理纯水清洗处理机构，其特征在于，包括：依次串联连接的第一清洗槽(1)，第二清洗槽(2)以及第三清洗槽(3)；

第一清洗槽(1)的侧壁，第二清洗槽(2)的侧壁以及第三清洗槽(3)的侧壁分别设有液位计(11)以及进液孔(12)；

第一清洗槽(1)的侧壁上还设有第一回液孔(15)；

第三清洗槽(3)的侧壁上还设有第二回液孔(16)；

第一清洗槽(1)与第二清洗槽(2)之间的第一侧壁(21)上设有通孔一(17)；

第二清洗槽(2)与第三清洗槽(3)之间的第二侧壁(22)上设有通孔二(18)；

通孔一(17)的设置高度高于通孔二(18)的设置高度；

第一回液孔(15)与第二回液孔(16)通过回液管道(19)连接，回液管道(19)上设有回液驱动泵(20)。

2.根据权利要求1所述的硅处理纯水清洗处理机构，其特征在于，

靠近第一侧壁(21)设置有第一挡板(23)；第一挡板(23)固设在第二清洗槽(2)的侧壁上；

第一挡板(23)的下端与第二清洗槽(2)的底部设有间距；

第一挡板(23)的上端与第二清洗槽(2)的上沿平齐。

3.根据权利要求1所述的硅处理纯水清洗处理机构，其特征在于，

靠近第二侧壁(22)设置有第二挡板(24)；第二挡板(24)固设在第一清洗槽(1)的侧壁上；

第二挡板(24)的下端与第一清洗槽(1)的底部设有间距；

第一挡板(23)的上端与第一清洗槽(1)的上沿平齐。

4.根据权利要求1或2所述的硅处理纯水清洗处理机构，其特征在于，

第一清洗槽(1)的底部内侧，第二清洗槽(2)的底部内侧以及第三清洗槽(3)的底部内侧分别设有鼓泡喷出管路(13)；

鼓泡喷出管路(13)呈十字交叉设置在各个清洗槽的底部；

鼓泡喷出管路(13)通过鼓泡连接管路(27)连接鼓泡机。

5.根据权利要求1或2所述的硅处理纯水清洗处理机构，其特征在于，

第一清洗槽(1)的底部外侧，第二清洗槽(2)的底部外侧以及第三清洗槽(3)的底部外侧分别连接有底排管道(25)，底排管道(25)上设有底排阀。

6.根据权利要求1或2所述的硅处理纯水清洗处理机构，其特征在于，

第一清洗槽(1)的底部外侧，第二清洗槽(2)的底部外侧以及第三清洗槽(3)的底部外侧分别连接有支腿(26)。

7.根据权利要求1或2所述的硅处理纯水清洗处理机构，其特征在于，

第一清洗槽(1)的底部内侧，第二清洗槽(2)的底部内侧以及第三清洗槽(3)的底部内侧分别设有加热器(14)。

8.根据权利要求1或2所述的硅处理纯水清洗处理机构，其特征在于，

第一清洗槽(1)的进液孔(12)，第二清洗槽(2)的进液孔(12)以及第三清洗槽(3)的进液孔(12)分别与输液管道(28)连接。