[实用新型]一种单晶硅片垂直清洗装置

说明书

本实用新型公开了一种单晶硅片垂直清洗装置，属于硅片超声波清洗设备技术领域，本实用新型包括清洗带、传送带、药水池和电机，清洗带底部有数个分布均匀的凹槽，凹槽底部设有多个超声波振子，清洗带的外围设置转动块和转动杆，通过转动块和转动杆旋转清洗带，使凹槽中的单晶硅片和药水落入传送带中，药水通过传送带上的网眼落入药水池中，而传送带将单晶硅片传送至出料口。本实用新型提供的单晶硅片垂直清洗装置结构简单，操作方便，维修成本低，解决了现有的清洗装置结构复杂，维修成本高，时间长，影响工作效率的问题。

技术领域

本实用新型涉及硅片超声波清洗设备技术领域，特别是一种单晶硅片垂直清洗装置。

背景技术

单晶硅片是一种具有基本完整的点阵结构的晶体，不同的方向具有不同的性质，是一种良好的半导材料，广泛用于制造半导体器件、太阳能电池等，单晶硅是一种比较活泼的非金属元素，是晶体材料的重要组成部分，处于新材料发展的前沿。其主要用途是用作半导体材料和利用太阳能光伏发电、供热等。由于太阳能具有清洁、环保、方便等诸多优势，近三十年来，太阳能利用技术在研究开发、商业化生产、市场开拓方面都获得了长足发展，成为世界快速、稳定发展的新兴产业之一。而单晶硅片则是通过切片机有序的从硅棒上加工出来，切割后单晶硅片的表面会附着有粘接剂、有机物和硅粉，如果不将这样物质去除，影响单晶硅片的使用性能，现有的清洗装置结构复杂，维修成本高，时间长，影响工作效率。

实用新型内容

本实用新型要解决的技术问题是针对上述现有技术的不足，而提供一种单晶硅片垂直清洗装置，该单晶硅片垂直清洗装置结构简单，操作方便，维修成本低。

为解决上述技术问题，本实用新型采用的技术方案是：

一种单晶硅片垂直清洗装置，包括清洗带、传送带、药水池和电机；清洗带包括凹槽、转动杆和转动块，清洗带的垂直方向的一端与送料口相通，清洗带的外面设置电机，清洗带的垂直方向的两侧通过分别连接设有转动块，清洗带的水平方向的两侧分别内套设有转动杆，转动杆的两端伸出清洗带内套伸入同侧的转动块中，转动杆沿转动块的中心轴向转动，转动块与电机相连，清洗带底部有数个分布均匀的凹槽；传送带设置在清洗带的下方，传送带宽度和长度均大于清洗带的宽度和长度，传送带的表面设有多个网眼，在传送带的水平方向的两侧分别设有传送皮带，传送带一端连接出料口；药水池设置在传送带的下方，药水池的上方是无盖的，药水池上方的宽度和长度均大于传送带的宽度和长度，药水池的外围设有一个水泵，水泵的一段连接抽水管，抽水管插入药水池中，水泵的另一端连接送水管，送水管连通清洗带的凹槽。

进一步的，所述清洗带的的凹槽的底部设有多个超声波振子。

进一步的，所述传送带上的网眼小于单晶硅片的面积。

进一步的，所述传送带上水平方向的两侧分别设有挡板。

本实用新型具有如下有益效果：

本实用新型简化了现有的单晶硅片的清洗装置结构，达到一样的清洗效果，本实用新型的一种单晶硅片垂直清洗装置结构简单，操作方便，易于维修，且维修成本低。

附图说明

图1是本实用新型一种单晶硅片垂直清洗装置的结构示意图。

其中有：1.清洗带；11.转动块；12.转动杆；13.凹槽；14.电机；2.传送带；3.药水池；4.水泵；41.抽水管；42.送水管。

具体实施方式

下面结合附图和具体较佳实施方式对本实用新型作进一步详细的说明。