[实用新型]一种新型晶圆研磨抛光设备

说明书

本实用新型涉及半导体加工设备技术领域，具体涉及一种新型晶圆研磨抛光设备，包括工作箱，工作箱的内部通过多根连板支撑有安装座，安装座的底面中心处通过支柱固定连接有放置在地面的底座，工作箱的顶面上固定安装有与其同轴的双轴电机，双轴电机的下输出轴穿入工作箱连接有横板，横板左右两端固定连接有第一清刷件，同时双轴电机的上输出端固定连接有连接杆，连接杆的另一端固定有第二清刷件，且第二清刷件贴合在工作箱的下部内壁，工作箱的顶部固定安装有储液箱，储液箱的底部通过导液管连接有环形导管，工作箱上开设有多个与管道对应导通的进液孔，本实用新型实现半自动化清洗工作箱内壁，减轻了工作人员的工作负担，提高了工作效率。

技术领域

本实用新型涉及半导体加工设备技术领域，具体涉及一种新型晶圆研磨抛光设备。

背景技术

晶圆是指硅半导体集成电路制作所用的硅晶片，由于其形状为圆形，故称为晶圆；在硅晶片上可加工制作成各种电路元件结构，而成为有特定电性功能的集成电路产品。

晶圆生产包括晶棒制造和晶片制造两大步骤，它又可细分为以下几道主要工序，其中晶棒制造只包括下面的第一道工序，其余的全部属晶片制造，所以有时又统称它们为晶柱切片后处理工序，该工序包括晶棒成长、晶棒裁切与检测、外径研磨、切片、圆边、表层研磨、蚀刻、去疵、抛光、清洗检验、包装。其中晶圆研磨的目的在于去掉切割时在晶片表面产生的锯痕和破损，使晶片表面达到所要求的光洁度，在研磨抛光时，需要将二氧化硅的抛光液始终对准研磨位置。

但是在研磨时，抛光液会四处飞溅，长时间使用工作箱内壁会附着较多的抛光液残留，传统都是人工清洗，费时费力，增加了工作人员的劳动量，给工作人员带来了负担。

实用新型内容

解决的技术问题

针对现有技术所存在的上述缺点，本实用新型提供了一种新型晶圆研磨抛光设备，能够有效地解决现有技术在研磨时，抛光液会四处飞溅，长时间使用工作箱内壁会附着较多的抛光液残留，传统都是人工清洗，费时费力，增加了工作人员的劳动量，给工作人员带来了负担的问题。

技术方案

为实现以上目的，本实用新型通过以下技术方案予以实现：

一种新型晶圆研磨抛光设备，包括由上圆柱形和下圆台形组成的工作箱，所述工作箱的内部通过多根环形阵列分布的连板支撑有安装座，所述安装座的底面中心处通过支柱固定连接有放置在地面的底座，所述工作箱的顶面上固定安装有与其同轴的双轴电机，且双轴电机处于竖直状态，所述双轴电机的下输出轴穿入工作箱连接有横板，所述横板左右两端固定连接有第一清刷件，且第一清刷件贴合在工作箱的上部内壁，同时双轴电机的上输出端固定连接有连接杆，所述连接杆的另一端固定有第二清刷件，且第二清刷件贴合在工作箱的下部内壁，所述工作箱的顶部固定安装有储液箱，所述储液箱的底部通过导液管连接有环形导管，且环形导管通过多个管道固定焊接在工作箱外壁上，所述工作箱上开设有多个与管道对应导通的进液孔。

更进一步地，所述横板的下侧面左侧和右侧分别安装有箱体和气缸，所述箱体的底部依次连接有喷液管和喷液头，所述气缸的底端固定连接有研磨石，便于在研磨时喷出抛光液。

更进一步地，所述安装座的顶面固定连接有电机罩，且电机罩内安装有单轴电机，所述单轴电机的输出端上固定安装有工作台，能够带动工作台转动进行研磨加工。

更进一步地，所述底座的内部为空心状，且支柱的底部与底座内壁之间安装有加强筋，通过加强筋能够提高立柱的稳定性。

更进一步地，所述气缸与研磨石之间至少固定有两个弹簧，弹簧能够起到缓冲作用。

更进一步地，所述第一清刷件和第二清刷件均包括杆体，所述杆体的外表面粘接有刷毛，通过杆体公转带动刷毛清刷箱体内壁。

有益效果