[实用新型]晶圆边缘清洗设备

权利要求书

1.一种晶圆边缘清洗设备，其特征在于，包括：

晶圆载板，用于承载晶圆，所述晶圆边缘具有至少一层待清洗的膜层；

第一清洗单元，用于采用湿法刻蚀工艺清洗所述晶圆边缘；

第二清洗单元，用于采用干法刻蚀工艺清洗所述晶圆边缘；

控制模块，用于基于当前待清洗的膜层的属性，调用与所述属性相对应的所述第一清洗单元或所述第二清洗单元对所述晶圆边缘进行清洗。

2.如权利要求1所述的晶圆边缘清洗设备，其特征在于，所述控制模块包括：

检测单元，用于在对所述晶圆边缘进行清洗的过程中，检测当前待清洗的膜层的属性是否发生变化；

处理单元，用于基于所述检测单元的检测结果，调用与所述属性相对应所述第一清洗单元或所述第二清洗单元对所述晶圆边缘进行清洗。

3.如权利要求2所述的晶圆边缘清洗设备，其特征在于，所述处理单元包括：

第一处理子单元，用于，当所述检测单元的检测结果表征当前待清洗的膜层为金属膜时，控制所述第一清洗单元对所述晶圆边缘进行清洗；

第二处理子单元，用于，当所述检测单元的检测结果表征当前待清洗的膜层为非金属膜时，控制所述第二清洗单元对所述晶圆边缘进行清洗。

4.如权利要求2所述的晶圆边缘清洗设备，其特征在于，所述检测单元集成在所述第一清洗单元或所述第二清洗单元至少一者中。

5.如权利要求1所述的晶圆边缘清洗设备，其特征在于，所述第一清洗单元包括第一喷头结构和第二喷头结构；

所述第一喷头结构用于清洗所述晶圆边缘的顶部表面，所述第二喷头结构用于清洗所述晶圆边缘的底部表面。

6.如权利要求5所述的晶圆边缘清洗设备，其特征在于，所述第一喷头结构包括：第一主体部、第一喷头部和第一驱动电机；

所述第一主体部包括滑槽，所述第一喷头部可移动的设置在所述滑槽上；所述第一驱动电机用于驱动所述第一喷头部在所述滑槽上移动。

7.如权利要求5所述的晶圆边缘清洗设备，其特征在于，所述第二喷头结构包括：第二主体部和第二喷头部和第二驱动电机；

所述第二喷头结构的位置相对于所述晶圆边缘的位置固定设置。

8.如权利要求6所述的晶圆边缘清洗设备，其特征在于，所述第一喷头部包括：

第一调节单元，所述第一驱动电机还用于驱动所述第一调节单元，对所述第一喷头部的喷嘴角度进行调节。

9.如权利要求7所述的晶圆边缘清洗设备，其特征在于，所述第二喷头部包括：

第二调节单元，所述第二驱动电机用于驱动所述第二调节单元，对所述第二喷头部的喷嘴角度进行调节。

10.如权利要求5所述的晶圆边缘清洗设备，其特征在于，包括：所述第一喷头结构与水平方向呈10到30的夹角朝向所述晶圆边缘的顶部表面；所述第二喷头结构与水平方向呈10到30的夹角朝向所述晶圆边缘的底部表面。