[实用新型]一种DLC连续镀膜生产线有效
申请号: | 201921910378.X | 申请日: | 2019-11-07 |
公开(公告)号: | CN210945763U | 公开(公告)日: | 2020-07-07 |
发明(设计)人: | 黄乐;黄国兴;祝海生 | 申请(专利权)人: | 黄乐 |
主分类号: | C23C14/34 | 分类号: | C23C14/34;C23C14/56 |
代理公司: | 上海精晟知识产权代理有限公司 31253 | 代理人: | 张超宇;冯子玲 |
地址: | 411100 湖*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 dlc 连续 镀膜 生产线 | ||
本实用新型提供了一种DLC连续镀膜生产线,包括呈直线依次连接的进口室、进口缓冲室、进口过渡室、第一工艺室组、隔离室、第二工艺室组、出口过渡室、出口缓冲室和出口室,形成连通的直线通道,以及和所述直线通道平行间隔布置的回架组,所述第一工艺室组和第二工艺室组分别包括多个工艺室,所述回架组包括多个依次衔接的回架。本实用新型的同一生产线上设有不同阴极设备,可在同一生产线上进行多层、连续镀膜,设有回架,通过同一传送机构进行基片传送,实现装载、卸载基片,回架结构简单有效。
技术领域
本实用新型涉及镀膜生产技术领域,具体为一种DLC连续镀膜生产线。
背景技术
真空镀膜技术是利用物理、化学手段将固体表面涂覆一层特殊性能的镀膜,从而使固体表面具有耐磨损、耐高温、耐腐蚀、抗氧化、防辐射、导电、导磁、绝缘和装饰灯许多优于固体材料本身的优越性能,达到提高产品质量、延长产品寿命、节约能源和获得显著技术经济效益的作用。需要镀膜的被称为基片,镀的材料被称为靶材。溅射镀膜已成为真空镀膜中最主要的方法,该技术是在真空中利用荷能粒子轰击靶表面,使被轰击出的粒子沉积在基片上。镀膜生产线包括多个连续的功能室,经过前期的抽真空等步骤后进入工艺室进行镀膜操作。对于DLC和其它镀膜,为了增强功能效果,往往需要进行多层镀膜,然而现有许多生产工艺中,多层镀膜时,现有许多工艺需要在多条独立的、非连续的生产线上完成。
实用新型内容
针对现有技术存在的上述问题,本实用新型的目的是提供一种DLC连续镀膜生产线,同一生产线上设有不同阴极设备,可在同一生产线上进行多层、连续镀膜;设有回架,通过同一传送机构进行基片传送,实现双面多层镀膜,回架结构简单有效。
为了实现上述目的,本实用新型所采用的技术方案是:
一种DLC连续镀膜生产线,包括呈直线依次连接的进口室、进口缓冲室、进口过渡室、第一工艺室组、隔离室、第二工艺室组、出口过渡室、出口缓冲室和出口室,形成连通的直线通道,以及和所述直线通道平行间隔布置的回架组,所述第一工艺室组和第二工艺室组分别包括多个工艺室,所述回架组包括多个依次衔接的回架,所述生产线还包括前平移台和后平移台,前平移台和后平移台分别位于所述直线通道的两端,同时分别位于回架组的两端。
作为上述技术方案的进一步改进为:
第一工艺室组包括由进口过渡室至隔离室方向依次连接的工艺室一、工艺室二和工艺室三,第二工艺室组包括由隔离室至出口过渡室方向依次连接的工艺室四和工艺室五。
所述生产线还包括阴极机构,所述阴极机构包括至少一个中频旋转阴极、至少一个线性离子源和至少一个平面阴极,工艺室一上安装有线性离子源,工艺室五上安装有平面阴极,工艺室二、工艺室三和工艺室四上各安装有中频旋转阴极。
所述生产线还包括将待镀膜的基片在所述直线通道进行传送的基片传送机构,基片传送机构包括基片架、多个磁导向和多个内传动轮,多个磁导向和多个内传动轮均匀间隔布置在进口室、进口缓冲室、进口过渡室、第一工艺室组、隔离室、第二工艺室组、出口过渡室、出口缓冲室和出口室内,沿着所述直线通道形成直线传送路径、磁导向位于内传动轮上方,装载基片的基片架位于多个磁导向和多个内传动轮之间、沿着所述直线通道运行。
基片架垂直于水平面,基片架上端和磁导向非接触磁性连接,下端滑设在多个内传动轮上。
内传动轮外表面沿着周向内凹,基片架下端接触并滑设在所述内凹表面上。
基片传送机构还包括多个磁流体、多个伺服电机、多个同步带和多个同步轮,每个同步轮通过磁流体连接一内传动轮,多个同步轮通过同步带连接,伺服电机连接并驱动同步轮。
每个回架内也均匀间隔设有多个磁导向、多个内传动轮,以及和内传动轮连接的磁流体、同步轮、同步带和传动电机,传动电机连接并驱动同步轮。
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