[实用新型]等离子真空腔体设计结构有效

专利信息
申请号: 201921917802.3 申请日: 2019-11-08
公开(公告)号: CN210790926U 公开(公告)日: 2020-06-19
发明(设计)人: 王晓东;马飞鹏 申请(专利权)人: 天津双微电子科技有限公司
主分类号: B25H3/02 分类号: B25H3/02
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 300000 天津市滨海新区华苑产*** 国省代码: 天津;12
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摘要:
搜索关键词: 等离子 空腔 设计 结构
【权利要求书】:

1.等离子真空腔体设计结构,包括外壳(1),其特征在于:所述外壳(1)的内部上方开设有真空腔(3),所述外壳(1)的内部下方开设有驱动腔(2),所述驱动腔(2)的内底壁固定连接有小型气缸(4),所述小型气缸(4)的外壁活动连接有定位垫(5),所述小型气缸(4)的输出轴顶部固定连接有铰接块(6),所述铰接块(6)的外壁铰接有第一铰接杆(9),所述第一铰接杆(9)的外壁铰接有第一固定块(7),所述第一铰接杆(9)的右端铰接有三角板(10),所述三角板(10)的外壁铰接有竖杆(11),所述竖杆(11)的底部铰接有背杆(12),所述背杆(12)的左端铰接有第二固定块(8),所述第二固定块(8)的外壁铰接有第二铰接杆(14),所述背杆(12)的右端铰接有短杆(13),所述短杆(13)的左端铰接有驱动杆(15),所述驱动杆(15)的顶部固定连接有横板(16),所述横板(16)的外壁活动连接有密封垫(17),所述横板(16)的顶部固定连接有下托架(18),所述下托架(18)的上方设置有上托架(19),所述上托架(19)的顶部固定连接有弹簧(20)。

2.根据权利要求1所述的等离子真空腔体设计结构,其特征在于:所述定位垫(5)填充在外壳(1)与小型气缸(4)之间的空隙中。

3.根据权利要求1所述的等离子真空腔体设计结构,其特征在于:所述第一固定块(7)和第二固定块(8)均固定连接在外壳(1)上。

4.根据权利要求1所述的等离子真空腔体设计结构,其特征在于:所述第二铰接杆(14)的右端铰接在三角板(10)的底部。

5.根据权利要求1所述的等离子真空腔体设计结构,其特征在于:所述上托架(19)和下托架(18)均为防静电材质。

6.根据权利要求1所述的等离子真空腔体设计结构,其特征在于:所述弹簧(20)固定连接在真空腔(3)的内顶壁上。

7.根据权利要求1所述的等离子真空腔体设计结构,其特征在于:所述真空腔(3)的内部沿竖直方向设置有若干层相互平行的电极板。

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