[实用新型]卷对卷等离子体腔体结构

说明书

本实用新型涉及腔体结构技术领域，且公开了卷对卷等离子体腔体结构，包括支撑脚，所述支撑脚的顶部固定安装有底板，所述底板的上表面开设有导轨槽，所述导轨槽的内部滑动连接有导轨，两个所述导轨的顶部固定安装有支撑板，所述支撑板的顶部固定安装有箱体，所述箱体的内部滑动安装有转轴，所述转轴的外侧分别固定安装有主动轮、进料辊、张力辊、除尘辊、收卷辊、浮动辊与从动轮，该设计，通过等离子体从主动轮的下表面的进入，接着会通过进料辊的上表面，再经过张力辊的下表面与浮动辊的上表面，接着通过两个除尘辊之间，再分别通过从动轮的上表面与下表面，最后通过两个收卷辊之间，从而达到可以进行卷对卷操作。

技术领域

本实用新型涉及腔体结构技术领域，具体为卷对卷等离子体腔体结构。

背景技术

等离子体技术已被广泛应用于半导体领域，现有的离子源主要包括考夫曼离子源、射频离子源、冷阴极离子源和无栅离子源，这些离子源的最大特点是可以将离子从等离子体源引出并施加到需要的基材上。

在传统的工业领域中，主要依靠低压辉光放电非平衡等离子体进行材料处理，而该等离子体产生过程需要昂贵的真空设备，巨大金额真空设备的投资，较高设施维护修理费用以及操作控制的复杂性等因素限制了低压辉光放电非平衡等离子体处理工艺的大范围使用。

实用新型内容

(一)解决的技术问题

针对现有技术的不足，本实用新型提供了卷对卷等离子体腔体结构，具备可以进行卷对卷操作，还能调节卷对卷之间的张力优点，解决了在传统的工业领域中，主要依靠低压辉光放电非平衡等离子体进行材料处理，而该等离子体产生过程需要昂贵的真空设备，巨大金额真空设备的投资，较高设施维护修理费用以及操作控制的复杂性等因素限制了低压辉光放电非平衡等离子体处理工艺的大范围使用的问题。

(二)技术方案

为实现上述具备可以进行卷对卷操作，还能调节卷对卷之间的张力目的，本实用新型提供如下技术方案：卷对卷等离子体腔体结构，包括支撑脚，所述支撑脚的顶部固定安装有底板，所述底板的上表面开设有导轨槽，所述导轨槽的内部滑动连接有导轨，两个所述导轨的顶部固定安装有支撑板，所述支撑板的顶部固定安装有箱体，所述箱体的内部滑动安装有转轴，所述转轴的外侧分别固定安装有主动轮、进料辊、张力辊、除尘辊、收卷辊、浮动辊与从动轮，所述支撑板的内部开设有浮动槽，所述浮动槽的内壁活动安装有齿条，所述齿条的内侧分别啮合连接有浮动块、第一齿轮第二齿轮，所述第一齿轮的外侧固定安装有第一手柄，所述箱体的内壁固定安装有轴承套，所述轴承套的内部螺纹连接有螺纹杆，所述螺纹杆的顶部固定安装有第二手柄，所述螺纹杆的底部固定安装有轴承盒，所述轴承盒的两个固定安装有压板。

优选的，所述箱体的内侧表面开设有与轴承盒相匹配的滑动槽，方便轴承盒上下运动时不会受到阻碍。

优选的，所述轴承盒的内部开设有与螺纹杆相匹配的螺纹槽，且轴承盒的内部活动连接有限位块，方便压板带动螺纹杆运动。

优选的，所述主动轮、进料辊、张力辊、除尘辊、收卷辊、浮动辊与从动轮的形状大小均一致，方便装置的维修更换。

优选的，所述压板的长度与进料辊的直径相等，方便进料辊表面的等离子体的压平。

优选的，所述导轨槽的形状呈现T字形，防止导轨的运行。优选的，所述浮动槽的宽度是浮动块宽度的两倍，方便浮动辊的的运行。

三有益效果

与现有技术相比，本实用新型提供了卷对卷等离子体腔体结构，具备以下有益效果：

1、该卷对卷等离子体腔体结构，通过等离子体从主动轮的下表面的进入，接着会通过进料辊的上表面，再经过张力辊的下表面与浮动辊的上表面，接着通过两个除尘辊之间，再分别通过从动轮的上表面与下表面，最后通过两个收卷辊之间，从而达到可以进行卷对卷操作。