[实用新型]一种镀铜均匀度改善装置有效
申请号: | 201921937786.4 | 申请日: | 2019-11-11 |
公开(公告)号: | CN211311630U | 公开(公告)日: | 2020-08-21 |
发明(设计)人: | 陈海鹏 | 申请(专利权)人: | 天津君林立得电子科技有限公司 |
主分类号: | C25D7/06 | 分类号: | C25D7/06;C25D3/38;C25D21/06;C25D21/00;C25D19/00;C25D17/00 |
代理公司: | 北京中政联科专利代理事务所(普通合伙) 11489 | 代理人: | 黄娟 |
地址: | 301700 *** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 镀铜 均匀 改善 装置 | ||
一种镀铜均匀度改善装置,包括底座、电镀槽、清洗池、滑动轨道、驱动装置、支撑架和过滤装置;清洗池与电镀槽均设置在底座上;清洗池与电镀槽的两侧均设置有用于接收液体的托盘;电镀槽的内部设置有若干个阳极座;阳极座的顶部设置有接线柱;阳极座的一侧设置有挂架;过滤装置设置在电镀槽的外壳上;支撑架的两端分别于两侧的托盘连接,且支撑架位于清洗池、电镀槽之间;支撑架上安装有电源正极和电源负极;滑动轨道的底部设置有支架,滑动轨道呈环形设置在清洗池与电镀槽的上方;驱动装置设置在滑动轨道上,驱动装置的底部设置有安装架;本实用新型可以新建生产线,也可在原有的龙门线的基础上进行升级改造,大大节省了厂商的投资成本。
技术领域
本实用新型涉及电镀技术领域,尤其涉及一种镀铜均匀度改善装置。
背景技术
目前的镀铜线均匀度,在10um左右,而现有的垂直电镀线镀铜的均匀度能控制在5um左右,但是垂直电路线,只能做厚径比8:1以上的板子,再高会非常困难,而且更换料号的时候非常麻烦,一定要等前面料号走完了才可以走后面的料号,工作效率差,适合于批量版,后径比较小的板子。这类板在制造中属于中低端产品,而高端版,后劲比必须要求较大,镀铜的均匀度要求比较高的板,现在还没有电镀生产线可以满足。
为解决上述问题,本申请中提出一种镀铜均匀度改善装置。
实用新型内容
(一)实用新型目的
为解决背景技术中存在的目前的镀铜线均匀度,在10um左右,而现有的垂直电镀线镀铜的均匀度能控制在5um左右,但是垂直电路线,只能做厚径比8:1以上的板子,再高会非常困难,而且更换料号的时候非常麻烦,一定要等前面料号走完了才可以走后面的料号,工作效率差的技术问题,本实用新型提出一种镀铜均匀度改善装置,本实用新型可以新建生产线,也可在原有的龙门线的基础上进行升级改造,确保生产出的产品均匀度在5um以下,厚径比可达到12:1的高质量的电镀线,大大节省了厂商的投资成本。
(二)技术方案
为解决上述问题,本实用新型提供了一种镀铜均匀度改善装置,包括底座、电镀槽、清洗池、滑动轨道、驱动装置、支撑架和过滤装置;
清洗池与电镀槽均设置在底座上;清洗池与电镀槽平行设置;清洗池与电镀槽的两侧均设置有用于接收液体的托盘;电镀槽的内部设置有若干个阳极座,阳极座上设置有多个通孔;阳极座的顶部设置有接线柱;阳极座的一侧设置有挂架,挂架上安装有第二喷流装置,第二喷流装置朝向阳极座内部方向喷流;电镀槽的外壁上设置有第一喷流装置,第一喷流装置朝向电镀槽内部喷流;过滤装置设置在电镀槽的外壳上,过滤装置沿着工件运动的方向设置有进液管,过滤装置沿着工件运动相反的方向设置有出液管;进液管和出液管均伸入电镀槽内部;过滤装置上设置有排污管;
支撑架的两端分别于两侧的托盘连接,且支撑架位于清洗池、电镀槽之间;支撑架与清洗池、电镀槽均为平行;支撑架上安装有电源正极和电源负极;电源正极通过导线与阳极座的接线柱连接;
滑动轨道的底部设置有支架,滑动轨道呈环形设置在清洗池与电镀槽的上方;驱动装置设置在滑动轨道上,驱动装置的底部设置有安装架,驱动装置驱动安装架沿着滑动轨道滑动;
优选的,安装架的底部设置有伸缩装置,伸缩装置的底部设置有用于夹持工件的夹持部;电源负极通过导线与夹持部连接;导线长度大于滑动轨道的长度。
优选的,电源正极与支撑件固定连接,电源负极与支撑架转动连接。
优选的,电镀槽朝向支撑架安装的一侧设置有供气装置,供气装置的出气端通过软管伸入电镀槽内部;供气装置的进气端朝向支撑架设置。
优选的,托盘的水平高度低于电镀槽槽口5cm。
优选的,清洗池的内部设置有多个隔板,清洗池分割成若干个独立的隔间;任意一个隔间均设置有排水管。
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